[發明專利]一種多個單體浮雕造型組合并隱藏接縫的浮雕及制作方法有效
| 申請號: | 201610074129.6 | 申請日: | 2016-02-02 |
| 公開(公告)號: | CN105538982B | 公開(公告)日: | 2019-02-19 |
| 發明(設計)人: | 邊朝暉 | 申請(專利權)人: | 邊朝暉 |
| 主分類號: | B44C3/02 | 分類號: | B44C3/02 |
| 代理公司: | 北京慧泉知識產權代理有限公司 11232 | 代理人: | 王順榮;李娜 |
| 地址: | 100015 北京市朝陽區酒仙橋*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 單體 浮雕 造型 組合 隱藏 接縫 制作方法 | ||
本發明一種多個單體浮雕造型組合并隱藏拼縫的浮雕,由多塊單體浮雕造型為拼接單元的多邊體造型組合而成,每塊造型分三層:雕刻層位于最表層;第二層為隱縫結構層;最內層為榫卯結構層,該層設有凹凸配合部,使相鄰的造型可通過該凹凸部榫卯連接,且該連接拼縫可被隱縫結構層遮擋。該浮雕壁畫的制作方法包括:根據設計圖紙確定組合造型的數量、薄厚及尺寸;將每塊造型分別加工出雕刻層、隱縫結構層及榫卯結構層;在有連接關系的造型的榫卯結構層上,加工出凹凸配合部;藝術家在雕刻層進行藝術創作后將所有造型榫卯連接組成浮雕整體。本發明浮雕尺寸不受造型大小限制;多造型間榫卯結構咬合制成,且拼接縫被隱藏在內,整體美觀、大方。
【技術領域】
本發明是一種多個單體浮雕造型組合并隱藏接縫的浮雕及制作方法,尤其指浮雕無縫組合浮雕及制作方法,可以同時利用多個單體浮雕造型組合而成的浮雕及其制作方法,屬于藝術品加工技術領域。
【背景技術】
浮雕、壁畫是重要的裝飾物之一,其適用廣泛、空間效果強烈,既具有造型藝術的特點,由具有建筑藝術的某些特征,它們不僅豐富著人們的生活、工作、商業、公共設施等空間,還承載著文化、歷史的宣傳和展示,是不可等閑忽視的。目前習知的浮雕、壁畫大體有兩類,其中一類有如下缺陷:(1)浮雕造型內部沒有任何結構,(2)由于材料尺寸限制,拼接是按長方體或正方體材料為拼接單元,在每個長方體或正方體拼接單元材料上雕刻,常常造成破壞造型的現象;且在單一材質表面進行半立體的雕刻,只是在浮雕造型的背面為安裝連接設有孔槽,這樣就使得習知的浮雕表面色彩單一,浮雕內容及大小受造型所限,并且會在主要造型部分產生破壞性拼縫;另一類習知是使用鑲嵌或粘合技術的壁畫,具體是將兩種造型直接拼接而成,此種方式使壁畫表面效果拼縫簡單暴露明顯,日久容易開膠、脫落,并且表面平板。
上述習知使現有的浮雕、壁畫由于內部結構簡單導致表面色彩單一、材質單一、小型化或者拼接縫暴露,并且會在主要造型部分產生破壞性拼縫,主要的裝飾美觀部分都具有局限性,有待改善。
【發明內容】
本發明的目的是在于提供一種多個單體浮雕造型組合并隱藏接縫的浮雕及制作方法,以解決現有技術中浮雕拼接是按長方體或正方體材料為拼接單元,浮雕造型部分產生破壞性拼縫,小型化及拼接縫暴露易開膠脫落等缺陷。
本發明的一種多個單體浮雕造型組合并隱藏接縫的浮雕,其是由多塊單體浮雕造型為拼接單元的多邊體造型組合而成,每個多邊體又分三層,具體為:雕刻層位于最表層,用于藝術家的雕刻創作;第二層為隱縫結構層,每塊造型的隱縫結構層與相鄰造型隱縫結構層的接觸面為互補斜面,且可被相鄰造型斜出的雕刻層掩蓋達到隱藏拼縫的效果;最內層為榫卯結構層,該層設有凹凸配合部,使得相鄰的造型可以通過該凹凸配合部榫卯連接并固定,且連接拼縫可被上述隱縫結構層遮擋。
其中,所述的浮雕整體被進一步固定在一塊背板或一固定架上。
其中,所述的雕刻層、隱縫結構層及榫卯結構層為一體成型。
其中,所述的雕刻層、隱縫結構層及榫卯結構層為粘接而成。
一種多個單體浮雕造型組合并隱藏接縫的浮雕的制作方法,具體包括如下步驟:
A、藝術家根據設計圖紙確定組合造型的數量、薄厚及尺寸;
B、結構工程師將每塊造型分別設計出雕刻層、隱縫結構層及榫卯結構層;
C、數控技師加工出雕刻層、隱縫結構層及榫卯結構層;并在有連接關系的造型的榫卯結構層上,加工出凹凸配合部;
D、由藝術家在雕刻層進行藝術創作之后,再將所有造型榫卯連接組成浮雕整體。
其中,所述的浮雕整體被進一步固定在一塊背板或一固定架上。
其中,所述的雕刻層、隱縫結構層及榫卯結構層為一體成型。
其中,所述的雕刻層、隱縫結構層及榫卯結構層為粘接而成。
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