[發(fā)明專利]一種低熔點(diǎn)金屬磁致塑性環(huán)向輾摩超細(xì)化方法及其裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610072710.4 | 申請日: | 2016-02-02 |
| 公開(公告)號: | CN105568184B | 公開(公告)日: | 2018-06-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王文;喬柯;王快社;李天麒;張巡輝 | 申請(專利權(quán))人: | 西安建筑科技大學(xué) |
| 主分類號: | C22F1/00 | 分類號: | C22F1/00;C22F1/06;C22F1/04 |
| 代理公司: | 西安恒泰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 61216 | 代理人: | 李鄭建;孫雅靜 |
| 地址: | 710055*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 低熔點(diǎn)金屬 試件 圓柱體狀 超細(xì)化 自轉(zhuǎn) 金屬表面 塑性環(huán) 磁致 細(xì)化 動態(tài)再結(jié)晶 電磁構(gòu)件 多次加工 進(jìn)給構(gòu)件 冷卻構(gòu)件 母線方向 試件加工 電磁場 試件夾 環(huán)向 控壓 豎向 金屬 行進(jìn) | ||
1.一種低熔點(diǎn)金屬磁致塑性環(huán)向輾摩超細(xì)化方法,其特征在于,將低熔點(diǎn)金屬待處理試件加工成圓柱體狀,使圓柱體狀的低熔點(diǎn)金屬待處理試件沿旋轉(zhuǎn)面進(jìn)行自轉(zhuǎn),沿自轉(zhuǎn)的圓柱體狀的低熔點(diǎn)金屬待處理試件的母線方向?qū)Φ腿埸c(diǎn)金屬待處理試件進(jìn)行行進(jìn)式表面輾摩;
還給低熔點(diǎn)金屬待處理試件提供電磁場;
所述的圓柱體狀的低熔點(diǎn)金屬待處理試件的自轉(zhuǎn)角速度與行進(jìn)式表面輾摩的行進(jìn)速度比為2~10;自轉(zhuǎn)角速度的單位為r/min,行進(jìn)式表面輾摩的行進(jìn)速度單位為mm/min;
所述的電磁場的磁場強(qiáng)度為2×10
所述的低熔點(diǎn)金屬為AZ31鎂合金,對AZ31鎂合金待處理試件進(jìn)行行進(jìn)式表面輾摩時的壓下量為0.2~1mm;
進(jìn)行行進(jìn)式表面輾摩的單位輾摩面積與圓柱體狀的低熔點(diǎn)金屬待處理試件的側(cè)面積的面積比為1:4~24。
2.實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1所述的低熔點(diǎn)金屬磁致塑性環(huán)向輾摩超細(xì)化方法的裝置,其特征在于,包括試件夾緊自轉(zhuǎn)構(gòu)件、控壓輾摩構(gòu)件、冷卻構(gòu)件(13)、豎向進(jìn)給構(gòu)件和電磁構(gòu)件,試件夾緊自轉(zhuǎn)構(gòu)件用于夾緊圓柱體狀的低熔點(diǎn)金屬待處理試件(10)并控制其沿旋轉(zhuǎn)面進(jìn)行自轉(zhuǎn),控壓輾摩構(gòu)件在豎向進(jìn)給構(gòu)件的帶動下沿圓柱體狀的低熔點(diǎn)金屬待處理試件(10)的母線方向進(jìn)行行進(jìn)式輾摩,冷卻構(gòu)件(13)對加工過程中的圓柱體狀的低熔點(diǎn)金屬待處理試件(10)進(jìn)行冷卻,所述的電磁構(gòu)件為低熔點(diǎn)金屬待處理試件提供電磁場;
所述的控壓輾磨構(gòu)件包括輾磨頭(1)和與輾磨頭(1)同軸連接的壓力器(3),壓力器(3)與豎向進(jìn)給構(gòu)件的移動端垂直固定連接;
所述的輾磨頭(1)的輾磨面為弧形面,弧形面的弧度為
所述的試件夾緊自轉(zhuǎn)構(gòu)件包括三棘爪(8)和旋轉(zhuǎn)馬達(dá)(7),三棘爪(8)夾緊圓柱體狀的低熔點(diǎn)金屬待處理試件(10),旋轉(zhuǎn)馬達(dá)(7)帶動三棘爪(8)與圓柱體狀的低熔點(diǎn)金屬待處理試件(10)一起沿旋轉(zhuǎn)面進(jìn)行自轉(zhuǎn);
所述的試件夾緊自轉(zhuǎn)構(gòu)件還包括頂針(12),頂針(12)位于三棘爪(8)的上方,三棘爪(8)將圓柱體狀的低熔點(diǎn)金屬待處理試件(10)的一個底面端夾緊,頂針(12)在圓柱體狀的低熔點(diǎn)金屬待處理試件(10)的另一個底面頂緊。
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