[發明專利]減反膜玻璃及其制備方法

有效

• 申請號: 201610071724.4
• 申請日: 2016-02-02
• 公開（公告）號: CN105585253A
• 公開（公告）日: 2016-05-18
• 發明（設計）人: 蘇華;于思遠
• 申請（專利權）人: 深圳新晶泉技術有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34
• 代理公司: 深圳冠華專利事務所(普通合伙) 44267
• 代理人: 諸蘭芬

1.一種減反膜玻璃，其包括玻璃基體，其特征在于，該減反膜玻璃還包括形成于該玻璃 基體表面的四層減反膜，該四層減反膜由高折射率介質膜和低折射率介質膜依次層疊形 成；在該四層減反膜中，最靠近該玻璃基體表面的為高折射率介質膜，遠離該玻璃基體表面 的最外層為低折射率介質膜。

2.根據權利要求1所述的減反膜玻璃，其特征在于，該四層減反膜為依次形成在該玻璃 基體表面的第一高折射率介質膜、第一低折射率介質膜、第二高折射率介質膜及第二低折 射率介質膜。

3.根據權利要求2所述的減反膜玻璃，其特征在于，所述的第一高折射率介質膜材料為 氮化硅、氧化鈦或氧化鈮，其厚度為5~30nm。

4.根據權利要求2所述的減反膜玻璃，其特征在于，所述的第一低折射率介質膜材料為 氧化硅，其厚度為20~60nm。

5.根據權利要求2所述的減反膜玻璃，其特征在于，所述的第二高折射率介質膜材料為 氮化硅、氧化鈦或氧化鈮，其厚度為20~130nm。

6.根據權利要求2所述的減反膜玻璃，其特征在于，所述的第二低折射率介質膜材料為 氧化硅，其厚度為70~150nm。

7.根據權利要求1所述的減反膜玻璃，其特征在于，所述的減反膜玻璃正面可見光反射 率低于5%。

8.根據權利要求1所述的減反膜玻璃，其特征在于，所述的減反膜玻璃具有全角度反射 色呈中性的特征，反射光與減反膜玻璃夾角從0o到180o的反射色,其a*值介于（-3，1）之間， b*值介于（-3，1）之間。

9.一種減反膜玻璃的制備方法，其包括如下步驟：

S1、清洗玻璃基體，干燥后放置進入磁控濺射區；

S2、中頻電源加旋轉陰極濺射沉積第一高折射率介質層；

S3、中頻電源加旋轉陰極濺射沉積第一低折射率介質層；

S4、中頻電源加旋轉陰極濺射沉積第二高折射率介質層；及

S5、中頻電源加旋轉陰極濺射沉積第二低折射率介質層。

10.如權利要求9所述的減反膜玻璃的制造方法，其特征在于，所述的中頻電源加旋轉 陰極濺射是在氬氧或氬氮氛圍中進行。