[發(fā)明專利]一種等離子反應(yīng)腔體的滲漏檢測(cè)方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610071538.0
• 申請(qǐng)日: 2016-02-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105738037A
• 公開(kāi)（公告）日: 2016-07-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 任連娟;陸飛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢新芯集成電路制造有限公司
• 主分類號(hào): G01M3/02
• 分類號(hào): G01M3/02
• 代理公司: 北京輕創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11212
• 代理人: 陳薇

1.一種等離子反應(yīng)腔體的滲漏檢測(cè)方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1，分別向正常等離子反應(yīng)腔體中通入預(yù)設(shè)含量的氟烷基氣體和與所述預(yù)設(shè)含量不同的已知含量的氟烷基氣體，接入預(yù)設(shè)激發(fā)能量使氣體電離，并分別采集電離過(guò)程中發(fā)射的譜線生成第一光譜曲線；

步驟2，分別向正常等離子反應(yīng)腔體中通入所述預(yù)設(shè)含量的氟烷基氣體與不同已知含量的其它氣體的組合氣體，接入所述預(yù)設(shè)激發(fā)能量使氣體電離，并分別采集電離過(guò)程中發(fā)射的譜線生成第二光譜曲線；其中，所述其它氣體包括待檢測(cè)等離子反應(yīng)腔體工作中容易漏入的氣體；

步驟3，向所述待檢測(cè)等離子反應(yīng)腔體中通入所述預(yù)設(shè)含量的氟烷基氣體，接入所述預(yù)設(shè)激發(fā)能量使氣體電離，并采集電離過(guò)程中發(fā)射的譜線生成第三光譜曲線；

步驟4，將所述第三光譜曲線與所述第一光譜曲線和所述第二光譜曲線進(jìn)行對(duì)比，獲取與所述第三光譜曲線相匹配的匹配光譜曲線；并根據(jù)所述匹配光譜曲線所對(duì)應(yīng)的正常等離子反應(yīng)腔體中各氣體的含量，獲知所述待檢測(cè)等離子反應(yīng)腔體的滲漏情況。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種等離子反應(yīng)腔體的滲漏檢測(cè)方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)激發(fā)能量為已知強(qiáng)度的射頻電磁波。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種等離子反應(yīng)腔體的滲漏檢測(cè)方法，其特征在于，所述其它氣體包括氮?dú)狻⒀鯕狻⒍趸己涂諝狻?/p>

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種等離子反應(yīng)腔體的滲漏檢測(cè)方法，其特征在于，所述空氣為所述待檢測(cè)等離子反應(yīng)腔體所處工作環(huán)境中的空氣。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種等離子反應(yīng)腔體的滲漏檢測(cè)方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)含量為所述待檢測(cè)等離子反應(yīng)腔體工作時(shí)所需氟烷基氣體的含量。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種等離子反應(yīng)腔體的滲漏檢測(cè)方法，其特征在于，所述第一光譜曲線、第二光譜曲線和第三光譜曲線的生成為分別通過(guò)光譜分析儀采集所述第一光譜曲線、第二光譜曲線和第三光譜曲線對(duì)應(yīng)的電離過(guò)程中發(fā)射的譜線而生成。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一所述一種等離子反應(yīng)腔體的滲漏檢測(cè)方法，其特征在于，所述正常等離子反應(yīng)腔體與待檢測(cè)等離子反應(yīng)腔體的型號(hào)相同。