[發(fā)明專利]智能超輕超薄可揉折電子元器件及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610071035.3
• 申請(qǐng)日: 2016-02-02
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105611725B
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-07-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 霍格·C·威廉;葉志遠(yuǎn);李善松;孫湛峰;程石麟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中特銀佳盟科技有限公司
• 主分類號(hào): H05K1/03
• 分類號(hào): H05K1/03;H05K3/06
• 代理公司: 北京格允知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11609
• 代理人: 李亞?wèn)|

1.一種智能超輕超薄可揉折電子元器件的制備方法，

所述智能超輕超薄可揉折電子元器件是在導(dǎo)電布上通過(guò)微刻蝕得到的具有電子元器件導(dǎo)電圖案的以織物為絕緣基底的電子元器件，所述導(dǎo)電布采用二維導(dǎo)電布或者三維導(dǎo)電布；其中二維導(dǎo)電布是金屬涂鍍層不僅涂鍍?cè)诳椢锘椎纳舷卤砻嫔希彝垮冎辆幙棽嫉慕?jīng)緯紗線的表面；三維導(dǎo)電布是金屬涂鍍層不僅涂鍍?cè)诳椢锘椎纳舷聝擅嫔希彝垮冊(cè)跇?gòu)成紗線的每根單絲的表面，所述智能超輕超薄可揉折電子元器件是在織物的兩面上具有導(dǎo)通的電子元器件導(dǎo)電圖案，所述導(dǎo)電布采用通過(guò)濕法化學(xué)處理方法得到，所述電子元器件導(dǎo)電圖案為電阻導(dǎo)電圖案、傳感器導(dǎo)電圖案、線路板導(dǎo)電圖案或者天線導(dǎo)電圖案，

其特征在于制備方法包括如下步驟：

步驟一、在導(dǎo)電布表面刻印電子元器件導(dǎo)電圖案的保護(hù)膜層，得刻印導(dǎo)電布；

步驟二、對(duì)刻印導(dǎo)電布進(jìn)行金屬微刻蝕，將電子元器件導(dǎo)電圖案之外導(dǎo)電布上的金屬涂鍍層刻蝕去除，然后再去除掉電子元器件導(dǎo)電圖案上的保護(hù)膜層，即得智能超輕超薄可揉折電子元器件；

步驟一中，采用曝光顯影的方式刻印保護(hù)膜層；

所述曝光顯影刻印保護(hù)膜層的具體操作為：首先在導(dǎo)電布表面壓覆干膜，然后進(jìn)行曝光和顯影即可；其中，顯影采用質(zhì)量濃度為1％的碳酸鈉溶液作為顯影液；

所述曝光顯影刻印保護(hù)膜層的具體操作中，所述顯影液采用噴淋的方式噴淋至曝光后的導(dǎo)電布表面的保護(hù)膜層上，進(jìn)行顯影；

步驟二中，所述金屬微刻蝕采用化學(xué)溶劑刻蝕方法，所述化學(xué)溶劑采用質(zhì)量濃度為10％～15％的硝酸溶液；所述金屬微刻蝕的具體操作為，采用噴淋的方式，將化學(xué)溶劑噴淋至導(dǎo)電布的表面，噴淋條件為：在20～25℃的溫度下，噴淋30-45分鐘；

步驟二中，金屬微刻蝕導(dǎo)電布表面為三層金屬涂鍍層，將金屬微刻蝕過(guò)程采用三級(jí)金屬微刻蝕，具體分級(jí)金屬微刻蝕工藝為：第一級(jí)，在20～25℃的溫度下，將15％的硝酸溶液噴淋至導(dǎo)電布的金屬涂鍍層，噴淋20分鐘，然后噴淋清水沖洗；第二級(jí)，在20～25℃的溫度下，將12％的硝酸溶液噴淋至導(dǎo)電布的金屬涂鍍層，噴淋15分鐘，然后噴淋清水沖洗；第三級(jí)，在20～25℃的溫度下，將10％的硝酸溶液噴淋至導(dǎo)電布的金屬涂鍍層，噴淋10分鐘，然后噴淋清水沖洗。