[發明專利]一種對HMX晶體形貌進行修復/修飾的方法在審
| 申請號： | 201610070704.5 | 申請日： | 2016-02-02 |
| 公開（公告）號： | CN105732531A | 公開（公告）日： | 2016-07-06 |
| 發明（設計）人： | 郭學永;張靜元;焦清介;張樸;崔超;盧佳驥;張洪壘;李航 | 申請（專利權）人： | 北京理工大學 |
| 主分類號： | C07D257/02 | 分類號： | C07D257/02 |
| 代理公司： | 北京思創畢升專利事務所 11218 | 代理人： | 韋慶文 |
| 地址： | 100081 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 hmx 晶體 形貌 進行 修復 修飾 方法 | ||
1.一種對HMX晶體形貌進行修復/修飾的方法，其特征在于，該方法包括：在攪拌條件下，使HMX晶體與溶劑-反溶劑重結晶法制得的HMX重結晶母液或其稀釋液進行混合。
2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述HMX重結晶母液中的溶劑選自丙酮、二甲基亞砜和二甲基甲酰胺中的至少一種。
3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述HMX重結晶母液中的反溶劑選自二氯甲烷、三氯甲烷、四氯化碳、乙醇和蒸餾水中的至少一種。
4.根據權利要求1所述的方法，其中，HMX重結晶母液稀釋液由向飽和的HMX重結晶母液中加入溶劑制得。
5.根據權利要求1-4中任意一項所述的方法，其中，所述HMX重結晶母液中，HMX的濃度為HMX在溶劑中溶解度的1-10％，優選為2-7％。
6.根據權利要求1-4中任意一項所述的方法，其中，所述混合的條件包括：溫度為20-80℃。
7.根據權利要求1-4中任意一項所述的方法，其中，所述攪拌的速度為200-1000轉/分鐘。
8.根據權利要求7所述的方法，其中，所述攪拌的速度為500-1000轉/分鐘。
9.根據權利要求1-4中任意一項所述的方法，其中，所述攪拌的時間為2-4h。
10.根據權利要求1所述的方法，其中，所述修復/修飾使得HMX晶體中HMX含量≥99.9％，晶體密度≥1.90g/cm3，HMX晶體的外觀觀測無尖銳棱角，晶體表面光滑，晶面無裂紋，晶體短長軸比≥0.8。
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