[發(fā)明專利]電阻式隨機(jī)存取內(nèi)存及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610069955.1 | 申請(qǐng)日： | 2016-02-01 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN106803533A | 公開（公告）日： | 2017-06-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 謝明宏 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 華邦電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01L45/00 | 分類號(hào)： | H01L45/00;H01L27/24;G11C13/00 |
| 代理公司： | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11205 | 代理人： | 馬雯雯,臧建明 |
| 地址： | 中國(guó)臺(tái)灣臺(tái)*** | 國(guó)省代碼： | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電阻 隨機(jī)存取 內(nèi)存 及其 制造 方法 | ||
1.一種電阻式隨機(jī)存取內(nèi)存，其特征在于，包括：
第一電極，配置于基底上；
第二電極，配置于所述第一電極與所述基底之間；
可變電阻氧化物層，配置于所述第一電極與所述第二電極之間；
硬掩膜層，配置于所述第一電極上；以及
氫阻擋層，配置于所述硬掩膜層與所述第一電極之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存取內(nèi)存，其特征在于，所述氫阻擋層的材料包括金屬氧化物。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電阻式隨機(jī)存取內(nèi)存，其特征在于，所述金屬氧化物包括氧化鋁、氧化鈦或氧化銥。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻式隨機(jī)存取內(nèi)存，其特征在于，所述氫阻擋層的厚度介于5nm至100nm之間。
5.一種電阻式隨機(jī)存取內(nèi)存的制造方法，其特征在于，包括：
于基底上形成第一電極；
于所述第一電極與所述基底之間形成第二電極；
于所述第一電極與所述第二電極之間形成可變電阻氧化物層；
于所述第一電極上形成硬掩膜層；以及
于所述硬掩膜層與所述第一電極之間形成氫阻擋層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電阻式隨機(jī)存取內(nèi)存的制造方法，其特征在于，所述氫阻擋層的材料包括金屬氧化物。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電阻式隨機(jī)存取內(nèi)存的制造方法，其特征在于，所述氫阻擋層的形成方法包括進(jìn)行物理氣相沉積制程或原子層沉積制程。
8.一種電阻式隨機(jī)存取內(nèi)存，其特征在于，包括：
第一電極，配置于基底上；
第二電極，配置于所述第一電極與所述基底之間；
可變電阻氧化物層，配置于所述第一電極與所述第二電極之間；以及
硬掩膜層，配置于所述第一電極上，其中所述硬掩膜層是藉由進(jìn)行物理氣相沉積制程而形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電阻式隨機(jī)存取內(nèi)存，其特征在于，所述硬掩 膜層中不含有氫。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電阻式隨機(jī)存取內(nèi)存，其特征在于，所述硬掩膜層的厚度介于50nm至200nm之間。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于華邦電子股份有限公司，未經(jīng)華邦電子股份有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610069955.1/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 處理音頻信號(hào)的裝置和方法
- 有金屬氧化物的多階電阻隨機(jī)存取存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)及其制造方法
- 應(yīng)用隨機(jī)存取響應(yīng)幀的無(wú)線網(wǎng)絡(luò)通信的方法
- 使用于移動(dòng)裝置和基站的方法及其移動(dòng)裝置和基站
- 可增加寫入裕量的靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器
- 處理隨機(jī)存取響應(yīng)的方法
- 電阻式隨機(jī)存取記憶體與其控制方法
- 電阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元
- 利用支撐條的動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器單元陣列及其制作方法
- 動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)系統(tǒng)及數(shù)據(jù)處理方法
