[發(fā)明專利]一種合成孔徑雷達(dá)回波數(shù)據(jù)距離徙動(dòng)校正方法和裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610069577.7
• 申請(qǐng)日: 2016-02-01
• 公開（公告）號(hào): CN105572648A
• 公開（公告）日: 2016-05-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李寧;王宇;鄧云凱;張志敏;周春暉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院電子學(xué)研究所
• 主分類號(hào): G01S7/40
• 分類號(hào): G01S7/40
• 代理公司: 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 張穎玲;蔣雅潔

1.一種合成孔徑雷達(dá)SAR回波數(shù)據(jù)距離徙動(dòng)RCM校正方法，其特征在于，所述方法包括：

對(duì)回波數(shù)據(jù)進(jìn)行距離壓縮和幾何RCM校正，得到距離壓縮后的時(shí)域數(shù)據(jù)；

對(duì)所述距離壓縮后的時(shí)域數(shù)據(jù)進(jìn)行子孔徑分割，獲取子孔徑數(shù)據(jù)，分別選取各子孔徑 數(shù)據(jù)中具有最高信雜比SCR的子塊數(shù)據(jù)；

根據(jù)選取的各子塊數(shù)據(jù)，確定各子孔徑數(shù)據(jù)的殘余RCM；

對(duì)各子孔徑數(shù)據(jù)的殘余RCM進(jìn)行全孔徑組合，得到殘余RCM的全孔徑組合；

根據(jù)殘余RCM的全孔徑組合，校正所述回波數(shù)據(jù)的殘余RCM。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述對(duì)所述距離壓縮后的時(shí)域數(shù)據(jù)進(jìn)行子 孔徑分割，獲取子孔徑數(shù)據(jù)，并分別選取各子孔徑數(shù)據(jù)中具有最高SCR的子塊數(shù)據(jù)；包括：

將所述距離壓縮后的時(shí)域數(shù)據(jù)沿方位向分割為子孔徑數(shù)據(jù)；

采用滑動(dòng)窗對(duì)所述各子孔徑數(shù)據(jù)進(jìn)行選取處理，確定各子孔徑數(shù)據(jù)中具有最高SCR的 子塊數(shù)據(jù)；

所述子孔徑的長度為合成孔徑長度的二分之一到三分之一。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)選取的各子塊數(shù)據(jù)，確定各子孔 徑的殘余RCM；包括：

分別對(duì)所述各子塊數(shù)據(jù)進(jìn)行距離向升采樣和方位向降采樣，得到對(duì)應(yīng)的距離向升采樣 和方位向降采樣的數(shù)據(jù)；

分別對(duì)所述各距離向升采樣和方位向降采樣的數(shù)據(jù)，采用指數(shù)型平均距離像ARP計(jì)算， 獲取對(duì)應(yīng)的參考距離像RRP數(shù)據(jù)；

分別根據(jù)各距離向升采樣和方位向降采樣的數(shù)據(jù)和自身對(duì)應(yīng)的所述RRP數(shù)據(jù)，采用基 于熵原理的代價(jià)函數(shù)估算出對(duì)應(yīng)的RCM；

根據(jù)所述各估算的RCM的最小熵位置附近三個(gè)點(diǎn)的值，校準(zhǔn)所述各估算的RCM，獲取各 子孔徑數(shù)據(jù)的精確RCM；

采用簡(jiǎn)單插值對(duì)所述各精確RCM進(jìn)行升采樣，得到所述各子孔徑的殘余RCM。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述對(duì)各子孔徑的殘余RCM進(jìn)行全孔徑組 合，得到殘余RCM的全孔徑組合；包括：

采用包含高階多項(xiàng)式擬合和離散余弦變換的混合濾波方法，將各子孔徑的殘余RCM進(jìn) 行全孔徑組合，得到殘余RCM的全孔徑組合。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)殘余RCM的全孔徑組合，校正所述 回波數(shù)據(jù)的殘余RCM；包括：

對(duì)所述回波數(shù)據(jù)在距離頻域進(jìn)行參考相位相乘，得到對(duì)校正殘余RCM的回波數(shù)據(jù)；

根據(jù)殘余RCM的全孔徑組合對(duì)回波數(shù)據(jù)進(jìn)行粗相位補(bǔ)償。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

對(duì)所述校正殘余RCM的回波數(shù)據(jù)進(jìn)行自聚焦，并進(jìn)行方位壓縮，獲取SAR圖像；

所述自聚焦的方法，包括：相位梯度自聚焦PGA。

7.一種SAR回波數(shù)據(jù)RCM校正裝置，其特征在于，所述裝置包括：前處理模塊、殘余RCM確 定模塊、校正模塊，其中，

所述前處理模塊，用于對(duì)回波數(shù)據(jù)進(jìn)行距離壓縮和幾何RCM校正，得到距離壓縮后的時(shí) 域數(shù)據(jù)；

所述殘余RCM確定模塊，用于：

對(duì)所述距離壓縮后的時(shí)域數(shù)據(jù)進(jìn)行子孔徑分割，獲取子孔徑數(shù)據(jù)，分別選取各子孔徑 數(shù)據(jù)中具有最高SCR的子塊數(shù)據(jù)；

根據(jù)選取的各子塊數(shù)據(jù)，確定各子孔徑數(shù)據(jù)的殘余RCM；

對(duì)各子孔徑數(shù)據(jù)的殘余RCM進(jìn)行全孔徑組合，得到殘余RCM的全孔徑組合；

所述校正模塊，用于根據(jù)殘余RCM的全孔徑組合，校正所述回波數(shù)據(jù)的殘余RCM。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，所述殘余RCM確定模塊，具體用于：

將所述距離壓縮后的時(shí)域數(shù)據(jù)沿方位向分割為子孔徑數(shù)據(jù)；

采用滑動(dòng)窗對(duì)所述各子孔徑數(shù)據(jù)進(jìn)行選取處理，確定各子孔徑數(shù)據(jù)中具有最高SCR的 子塊數(shù)據(jù)；

所述子孔徑的長度為合成孔徑長度的二分之一到三分之一。