[發(fā)明專利]一種合成孔徑雷達(dá)回波數(shù)據(jù)距離徙動校正方法和裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610069577.7 | 申請日: | 2016-02-01 |
| 公開(公告)號: | CN105572648A | 公開(公告)日: | 2016-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李寧;王宇;鄧云凱;張志敏;周春暉 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院電子學(xué)研究所 |
| 主分類號: | G01S7/40 | 分類號: | G01S7/40 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270 | 代理人: | 張穎玲;蔣雅潔 |
| 地址: | 100190 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 合成孔徑雷達(dá) 回波 數(shù)據(jù) 距離 校正 方法 裝置 | ||
1.一種合成孔徑雷達(dá)SAR回波數(shù)據(jù)距離徙動RCM校正方法,其特征在于,所述方法包括:
對回波數(shù)據(jù)進(jìn)行距離壓縮和幾何RCM校正,得到距離壓縮后的時域數(shù)據(jù);
對所述距離壓縮后的時域數(shù)據(jù)進(jìn)行子孔徑分割,獲取子孔徑數(shù)據(jù),分別選取各子孔徑 數(shù)據(jù)中具有最高信雜比SCR的子塊數(shù)據(jù);
根據(jù)選取的各子塊數(shù)據(jù),確定各子孔徑數(shù)據(jù)的殘余RCM;
對各子孔徑數(shù)據(jù)的殘余RCM進(jìn)行全孔徑組合,得到殘余RCM的全孔徑組合;
根據(jù)殘余RCM的全孔徑組合,校正所述回波數(shù)據(jù)的殘余RCM。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述距離壓縮后的時域數(shù)據(jù)進(jìn)行子 孔徑分割,獲取子孔徑數(shù)據(jù),并分別選取各子孔徑數(shù)據(jù)中具有最高SCR的子塊數(shù)據(jù);包括:
將所述距離壓縮后的時域數(shù)據(jù)沿方位向分割為子孔徑數(shù)據(jù);
采用滑動窗對所述各子孔徑數(shù)據(jù)進(jìn)行選取處理,確定各子孔徑數(shù)據(jù)中具有最高SCR的 子塊數(shù)據(jù);
所述子孔徑的長度為合成孔徑長度的二分之一到三分之一。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)選取的各子塊數(shù)據(jù),確定各子孔 徑的殘余RCM;包括:
分別對所述各子塊數(shù)據(jù)進(jìn)行距離向升采樣和方位向降采樣,得到對應(yīng)的距離向升采樣 和方位向降采樣的數(shù)據(jù);
分別對所述各距離向升采樣和方位向降采樣的數(shù)據(jù),采用指數(shù)型平均距離像ARP計算, 獲取對應(yīng)的參考距離像RRP數(shù)據(jù);
分別根據(jù)各距離向升采樣和方位向降采樣的數(shù)據(jù)和自身對應(yīng)的所述RRP數(shù)據(jù),采用基 于熵原理的代價函數(shù)估算出對應(yīng)的RCM;
根據(jù)所述各估算的RCM的最小熵位置附近三個點(diǎn)的值,校準(zhǔn)所述各估算的RCM,獲取各 子孔徑數(shù)據(jù)的精確RCM;
采用簡單插值對所述各精確RCM進(jìn)行升采樣,得到所述各子孔徑的殘余RCM。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述對各子孔徑的殘余RCM進(jìn)行全孔徑組 合,得到殘余RCM的全孔徑組合;包括:
采用包含高階多項(xiàng)式擬合和離散余弦變換的混合濾波方法,將各子孔徑的殘余RCM進(jìn) 行全孔徑組合,得到殘余RCM的全孔徑組合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)殘余RCM的全孔徑組合,校正所述 回波數(shù)據(jù)的殘余RCM;包括:
對所述回波數(shù)據(jù)在距離頻域進(jìn)行參考相位相乘,得到對校正殘余RCM的回波數(shù)據(jù);
根據(jù)殘余RCM的全孔徑組合對回波數(shù)據(jù)進(jìn)行粗相位補(bǔ)償。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
對所述校正殘余RCM的回波數(shù)據(jù)進(jìn)行自聚焦,并進(jìn)行方位壓縮,獲取SAR圖像;
所述自聚焦的方法,包括:相位梯度自聚焦PGA。
7.一種SAR回波數(shù)據(jù)RCM校正裝置,其特征在于,所述裝置包括:前處理模塊、殘余RCM確 定模塊、校正模塊,其中,
所述前處理模塊,用于對回波數(shù)據(jù)進(jìn)行距離壓縮和幾何RCM校正,得到距離壓縮后的時 域數(shù)據(jù);
所述殘余RCM確定模塊,用于:
對所述距離壓縮后的時域數(shù)據(jù)進(jìn)行子孔徑分割,獲取子孔徑數(shù)據(jù),分別選取各子孔徑 數(shù)據(jù)中具有最高SCR的子塊數(shù)據(jù);
根據(jù)選取的各子塊數(shù)據(jù),確定各子孔徑數(shù)據(jù)的殘余RCM;
對各子孔徑數(shù)據(jù)的殘余RCM進(jìn)行全孔徑組合,得到殘余RCM的全孔徑組合;
所述校正模塊,用于根據(jù)殘余RCM的全孔徑組合,校正所述回波數(shù)據(jù)的殘余RCM。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置,其特征在于,所述殘余RCM確定模塊,具體用于:
將所述距離壓縮后的時域數(shù)據(jù)沿方位向分割為子孔徑數(shù)據(jù);
采用滑動窗對所述各子孔徑數(shù)據(jù)進(jìn)行選取處理,確定各子孔徑數(shù)據(jù)中具有最高SCR的 子塊數(shù)據(jù);
所述子孔徑的長度為合成孔徑長度的二分之一到三分之一。
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