[發(fā)明專利]晶圓邊緣量測(cè)模組

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610069517.5
• 申請(qǐng)日: 2016-02-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN107026095A
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-08-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蔡聲鴻;陳文淇;楊倬昀;李耀吉;趙立文;蔡明宏;吳思聰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 易發(fā)精機(jī)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/66
• 分類號(hào): H01L21/66
• 代理公司: 天津三元專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司12203
• 代理人: 崔鋼

1.一種晶圓邊緣量測(cè)模組，其特征在于，包括：

至少一線性掃描攝影機(jī)，架設(shè)在晶圓邊緣的預(yù)定處；

至少一凸透鏡組，位于該線性掃描攝影機(jī)的前方，使該線性掃描攝影機(jī)透過(guò)該凸透鏡組后，再對(duì)該晶圓邊緣的中端邊緣進(jìn)行線性掃描；

至少一反射鏡組，接近該晶圓邊緣，且其由一第一及第二反射鏡所構(gòu)成，并使反射面朝前，又該第一及第二反射鏡以該線性掃描攝影機(jī)為中央基準(zhǔn)，呈對(duì)稱狀而使兩側(cè)向前傾斜，使該線性掃描攝影機(jī)透過(guò)該第一及第二反射鏡的反射面后，再分別對(duì)該晶圓邊緣的上斜面邊緣及下斜面邊緣進(jìn)行線性掃描；以及

至少三個(gè)光源元件組，其光源分別投射至所要線性掃描該晶圓邊緣的上斜面邊緣、中端邊緣及下斜面邊緣上的像素，以分別形成不同暗場(chǎng)光源，令該晶圓邊緣的全部像素呈現(xiàn)低灰度值區(qū)域，當(dāng)該線性掃描攝影機(jī)線性掃描該晶圓邊緣的部分像素呈現(xiàn)高灰度值區(qū)域時(shí)，則量測(cè)出該高灰度值區(qū)域?yàn)樵摼A邊緣的缺陷(decfect)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的晶圓邊緣量測(cè)模組，其特征在于，所述光源元件組由一第一及第二光源組件所構(gòu)成，其接近該晶圓邊緣，并使光源投射朝前，且該第一及第二光源組件以該線性掃描攝影機(jī)為中央基準(zhǔn)，呈對(duì)稱狀而使兩側(cè)向前傾斜，使該第一及第二光源組件呈現(xiàn)非180°平行的光源夾角，且令該光源夾角在60°～160°之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的晶圓邊緣量測(cè)模組，其特征在于，所述第一及第二反射鏡呈現(xiàn)非180°平行的反射夾角，且令該反射夾角在60°～160°之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶圓邊緣量測(cè)模組，其特征在于，還包括一屏幕，觀察該晶圓邊緣的缺陷。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的晶圓邊緣量測(cè)模組，其特征在于，還包括一缺陷判斷單元，自動(dòng)判斷該晶圓邊緣的缺陷。