[發(fā)明專利]空間光調(diào)制器的缺陷層別檢測(cè)系統(tǒng)及檢測(cè)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610069274.5
• 申請(qǐng)日: 2016-02-01
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105699385B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-11-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 范靜濤;索津莉;蔡婭雯;戴瓊海
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 清華大學(xué)
• 主分類號(hào): G01N21/88
• 分類號(hào): G01N21/88
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 張大威

1.一種空間光調(diào)制器的缺陷層別檢測(cè)方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1：采集空間光調(diào)制器的缺陷中心處的兩個(gè)彼此相對(duì)的方向的圖像；

S2：對(duì)采集的兩個(gè)所述圖像分別進(jìn)行圖像預(yù)處理，轉(zhuǎn)換為將所述缺陷中心處凸顯出來(lái)的二值圖像，所述步驟S2進(jìn)一步包括：S201：如果采集得到的所述圖像是灰度圖像，則進(jìn)入步驟202；若采集得到的所述圖像是彩色圖像，則對(duì)所述彩色圖像進(jìn)行HSV色彩空間變換，并提取V通道將所述彩色圖像變?yōu)榛叶葓D像后進(jìn)入步驟S202；S202：對(duì)兩個(gè)所述灰度圖像均進(jìn)行膨脹處理，對(duì)經(jīng)過(guò)膨脹處理后的兩個(gè)所述灰度圖像均進(jìn)行腐蝕處理；S203：將兩個(gè)所述灰度圖像均進(jìn)行二值化，凸顯出所述空間光調(diào)制器的缺陷區(qū)域的位置；

S3：采用雙目匹配算法，依據(jù)兩個(gè)所述二值圖像計(jì)算所述空間光調(diào)制器的缺陷視差；

S4：采用kmeans聚類方法，依據(jù)所述缺陷視差進(jìn)行層別判斷，完成所述空間光調(diào)制器缺陷的層別檢測(cè)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的空間光調(diào)制器的缺陷層別檢測(cè)方法，其特征在于，所述步驟S2進(jìn)一步包括：

S201：如果采集得到的所述圖像是灰度圖像，則進(jìn)入步驟202；若采集得到的所述圖像是彩色圖像，則對(duì)所述彩色圖像進(jìn)行HSV色彩空間變換，并提取V通道將所述彩色圖像變?yōu)榛叶葓D像后進(jìn)入步驟S202；

S202：對(duì)兩個(gè)所述灰度圖像均進(jìn)行膨脹處理，對(duì)經(jīng)過(guò)膨脹處理后的兩個(gè)所述灰度圖像均進(jìn)行腐蝕處理；

S203：將兩個(gè)所述灰度圖像均進(jìn)行二值化，凸顯出所述空間光調(diào)制器的缺陷區(qū)域的位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的空間光調(diào)制器的缺陷層別檢測(cè)方法，其特征在于，所述步驟S3進(jìn)一步包括：

S301：分別計(jì)算兩個(gè)所述圖像中缺陷區(qū)域中心像素點(diǎn)的第一坐標(biāo)和第二坐標(biāo)，其中，所述第一坐標(biāo)和所述第二坐標(biāo)是通過(guò)對(duì)缺陷區(qū)域所有像素點(diǎn)的坐標(biāo)求平均值得到的；

S302：計(jì)算所述第一坐標(biāo)和所述第二坐標(biāo)的歐氏距離的到所述缺陷視差。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的空間光調(diào)制器的缺陷層別檢測(cè)方法，其特征在于，所述步驟S4進(jìn)一步包括：

S401：如果空間光調(diào)制器訓(xùn)練集已經(jīng)存在，則進(jìn)入步驟403；

否則，制作多個(gè)有缺陷的空間光調(diào)制器樣本構(gòu)建出一個(gè)缺陷層對(duì)應(yīng)缺陷視差的訓(xùn)練集，其中每個(gè)所述空間光調(diào)制器樣本中都在已知的某一層存在缺陷，且所述空間光調(diào)制器的每一層都存在相同數(shù)量有缺陷的訓(xùn)練樣本，進(jìn)入步驟S402；

S402：對(duì)每個(gè)所述缺陷層計(jì)算所述空間光調(diào)制器樣本的視差平均值，作為所述缺陷層的聚類中心；

S403：將所述缺陷視差分別與聚類中心比較，選取所述缺陷視差與所述聚類中心中差值最小的層作為所述空間光調(diào)制器的缺陷層。