[發明專利]一種通過光學量測檢測制品最佳焦距的方法在審
| 申請號： | 201610065840.5 | 申請日： | 2016-01-29 |
| 公開（公告）號： | CN105547655A | 公開（公告）日： | 2016-05-04 |
| 發明（設計）人： | 陳一慧;婁迪;陳盧佳 | 申請（專利權）人： | 上海華虹宏力半導體制造有限公司 |
| 主分類號： | G01M11/02 | 分類號： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴廣志 |
| 地址： | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 通過 光學 檢測 制品 最佳 焦距 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種通過光學量檢測制品最佳焦距的方法，其特征在于：采用KT Archer10型重合精度OVL量測機臺，測量掩膜版所搭載的重合精度標記圖 形的對角點間的距離。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于：測量時，硅片放置平臺的 旋轉角度為45度。
3.如權利要求1所述的方法，其特征在于：所述重合精度標記圖形為 10μmX10μm正方形。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海華虹宏力半導體制造有限公司，未經上海華虹宏力半導體制造有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610065840.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
