[發(fā)明專利]超級結器件在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610065809.1 | 申請日: | 2016-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN105702711A | 公開(公告)日: | 2016-06-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 王飛 | 申請(專利權)人: | 上海華虹宏力半導體制造有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/06 | 分類號: | H01L29/06;H01L29/423;H01L29/78 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產(chǎn)權代理有限公司 31211 | 代理人: | 丁紀鐵 |
| 地址: | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 超級 器件 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及半導體集成電路制造領域,特別是指一種超級結器件。
背景技術
超級結功率器件是一種發(fā)展迅速、應用廣泛的新型功率半導體器件。它是在雙擴散 金屬氧化物半導體(DMOS)的基礎上,通過引入超級結(SuperJunction)結構,除了 具備DMOS輸入阻抗高、開關速度快、工作頻率高、熱穩(wěn)定好、驅動電路簡單、易于集 成等特點外,還克服了DMOS的導通電阻隨著擊穿電壓成2.5次方關系增加的缺點。目 前超級結DMOS已廣泛應用于面向個人電腦、筆記本電腦、上網(wǎng)本、手機、照明(高壓 氣體放電燈)產(chǎn)品以及電視機(液晶或等離子電視機)和游戲機等消費電子產(chǎn)品的電源 或適配器。
目前超級結功率器件的制備工藝主要分成兩大類,一種是利用多次外延和注入的方 式在N型外延襯底上形成P柱;另外一種是在深溝槽刻蝕加P柱填充的方式形成。
現(xiàn)有的深槽型超級結器件,如圖1所示,在襯底或外延中具有P柱,P柱之上為體 區(qū),P柱位于體區(qū)的中心處形成一種平衡的左右對稱狀態(tài)。體區(qū)之間為JFET區(qū)域,外延 之上體區(qū)之間為柵極。圖2是器件的體區(qū)和柵極俯視圖。為了進一步降低導通電阻,必 須要用更低電阻的外延基片,同時為了保持擊穿電壓不下降,需要將P柱深槽的間距不 斷縮短,來保證耗盡區(qū)能夠在溝槽之間完全展開。相對大尺寸深槽間距的超級結產(chǎn)品, 深槽間的空間有足夠大用來形成對稱的雙溝道器件結構,而隨著溝槽之間距離的減小, 沒有足夠空間形成雙溝道。而溝槽間距的降低,會限制JFET區(qū)域的大小,影響到器件 的溝道長度,提高導通電阻。
圖3是另一種溝槽型柵極的超級結器件示意圖,圖中形成溝槽型柵極位于P柱之間 的體區(qū)中,基于這種結構,如圖4所示,縮小P柱之間的間距會引起平面柵結構的溝道 沒有足夠的區(qū)域形成,如果P柱與溝槽柵極的間距太近,還是會引起器件的導通電阻增 大的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種超級結器件,其能有效解決超級結器件的導 通電阻問題,同時還可以對超級結器件的開關時序進行調(diào)節(jié)。
為解決上述問題,本發(fā)明提供一種超級結器件,在N型外延中具有平行的P柱溝槽, P柱溝槽之間為體區(qū),在體區(qū)與P柱的交界處具有溝槽型柵極;所述溝槽型柵極是溝槽 內(nèi)壁附著氧化層后填充多晶硅形成。
進一步地,所述的溝槽型柵極位于P柱與體區(qū)的交界處,即溝槽型柵極一部分位于 P柱中,另一部分位于體區(qū)中。
進一步地,所述的P柱與體區(qū)通過溝槽型柵極隔離。
本發(fā)明所述的超級結器件,通過新的溝槽型柵極的位置,通過溝槽型柵極將P柱與 體區(qū)隔離開來,在縮小溝槽間距的同時保證溝道附近有足夠的電流導通區(qū)域保證導通電 阻不受影響。P柱與體區(qū)的隔離也可以對P柱和體區(qū)的電勢分別進行調(diào)節(jié),進而控制器 件的關斷速度。
附圖說明
圖1是現(xiàn)有超級結器件的剖面圖。
圖2是圖1的俯視圖。
圖3是另一種溝槽型柵極超級結器件的剖面示意圖。
圖4是將圖3所示結構P柱之間間距進一步縮小的示意圖。
圖5是本發(fā)明超級結器件的剖視圖。
附圖標記說明
1是襯底或外延,2是體區(qū),3是P柱,4是柵極,5是柵氧化層。
具體實施方式
本發(fā)明提供一種超級結器件,如圖5所示,在N型外延1中具有平行的P柱溝槽3, P柱溝槽3之間為體區(qū)2,在體區(qū)2與P柱3的交界處具有溝槽型柵極4,即溝槽型柵極 4一部分位于P柱3中,另一部分位于體區(qū)2中,P柱3與體區(qū)2通過溝槽型柵極4隔 離。所述溝槽型柵極4是溝槽內(nèi)壁附著氧化層5后填充多晶硅形成。
本發(fā)明所述的超級結器件,將溝槽型柵極挪到P柱與體區(qū)的交界處,通過溝槽型柵 極將P柱與體區(qū)隔離開來,可以進一步的縮小P柱溝槽之間的間距。在縮小溝槽間距的 同時保證溝道附近有足夠的電流導通區(qū)域來保證導通電阻不受影響。P柱與體區(qū)的隔離 也可以更方便地對P柱和體區(qū)的電勢分別進行調(diào)節(jié),進而控制超級結器件的關斷速度。
以上僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例,并不用于限定本發(fā)明。對于本領域的技術人員來說, 本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同 替換、改進等,均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結耗盡層或載流子集結層的電容器或電阻器;半導體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





