[發(fā)明專利]與外涂光刻膠一起使用的涂料組合物在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610064533.5 | 申請日： | 2010-05-20 |
| 公開（公告）號： | CN105759569A | 公開（公告）日： | 2016-07-13 |
| 發(fā)明（設計）人： | A·贊皮尼;V·簡恩;劉驄;S·克雷;O·昂格伊 | 申請（專利權）人： | 羅門哈斯電子材料有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/09 | 分類號： | G03F7/09;C07D251/32;C08G73/06 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 陳哲鋒 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 一起 使用 涂料 組合 | ||
【權利要求書】：
1.一種形成光刻膠浮雕像的方法，所述方法包括：
(a)在基材上涂覆包括樹脂的減反射涂料組合物，所述樹脂包括1)共價連接的交聯(lián)劑組分和2)對應于下列式的化合物：
其中所述基團R1OOC(CH2)n-、R2-和R3OOC(CH2)m-中至少兩個是不同的酸或酯基團；和
R1、R2和R3各自獨立地是氫或非氫取代基；和
n和m可以相同或不同，各自是一個整數(shù)；
所述化合物具有鹵素取代基；
(b)在上述涂料組合物層上涂覆光刻膠組合物；和
(c)曝光和顯影所述光刻膠層，從而制得光刻膠浮雕像，
所述樹脂包含聚酯鍵，
所述樹脂是由具有下式的一個或多個化合物形成的：
其中所述基團R1OOC(CH2)n-、R2-和R3OOC(CH2)m-中至少兩個是不同的酸或酯基團；和
R1、R2和R3各自獨立地是氫或非氫取代基；和
n和m可以相同或不同，各自是一個整數(shù)。
2.如權利要求1所述的方法，其中所述減反射組合物在涂覆所述光刻膠組合物之前被交聯(lián)。
3.如權利要求1或2所述的方法，其中所述化合物具有氟取代基。
4.如權利要求1所述的方法，其中所述交聯(lián)劑組分包含反應性羥基、氮、羧基和/或環(huán)氧基團。
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