[發(fā)明專利]一種發(fā)光二極管的切割方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610063880.6 | 申請日: | 2016-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN105575898B | 公開(公告)日: | 2018-01-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林曉文;高百卉 | 申請(專利權(quán))人: | 華燦光電(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/78 | 分類號: | H01L21/78;H01L33/00;B23K26/38 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11138 | 代理人: | 徐立 |
| 地址: | 215600 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 發(fā)光二極管 切割 方法 | ||
1.一種發(fā)光二極管的切割方法,其特征在于,所述切割方法包括:
將晶元的第一表面粘附在第一膠膜上,所述晶元包括Si襯底、設(shè)置在所述Si襯底的第一表面的P型電極、以及依次層疊在所述Si襯底的第二表面的鍵合層、電流擴(kuò)展層、P型限制層、多量子阱層、N型限制層、N型電極,所述Si襯底的第二表面為與所述Si襯底的第一表面相反的表面,所述晶元的第一表面為設(shè)置有所述P型電極的表面;
對所述晶元的第二表面進(jìn)行激光切割,所述晶元的第二表面為與所述晶元的第一表面相反的表面;
去除所述第一膠膜,將所述晶元的第二表面粘附在第二膠膜上;
對所述晶元的第一表面進(jìn)行激光切割;
對所述晶元的第一表面進(jìn)行劈裂,得到若干獨(dú)立的發(fā)光二極管芯片;
所述對所述晶元的第二表面進(jìn)行激光切割,包括:
對所述晶元的第二表面進(jìn)行兩次激光切割;
其中,第一次激光切割的功率大于第二次激光切割的功率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的切割方法,其特征在于,對所述晶元的第二表面進(jìn)行激光切割的深度為所述晶元的厚度的15%~20%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的切割方法,其特征在于,對所述晶元的第一表面進(jìn)行激光切割的深度為所述晶元的厚度的40%~50%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的切割方法,其特征在于,所述第一膠膜包括聚氯乙烯PVC基材和亞克力系粘著劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的切割方法,其特征在于,所述第二膠膜包括聚氯乙烯PVC基材和亞克力系粘著劑。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的切割方法,其特征在于,在所述對所述晶元的第二表面進(jìn)行激光切割之前,所述切割方法還包括:
在所述晶元的第二表面上涂上激光切割保護(hù)膠。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的切割方法,其特征在于,所述激光切割保護(hù)膠包括聚乙烯醇。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的切割方法,其特征在于,在所述對所述晶元的第一表面進(jìn)行劈裂之前,所述切割方法還包括:
在所述晶元的第一表面覆蓋聚對苯二甲酸乙二酯PET薄膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的切割方法,其特征在于,所述PET薄膜與所述晶元的第一表面相貼的表面涂有硅油。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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