[發明專利]一種發光二極管的切割方法有效
| 申請號: | 201610063880.6 | 申請日: | 2016-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN105575898B | 公開(公告)日: | 2018-01-09 |
| 發明(設計)人: | 林曉文;高百卉 | 申請(專利權)人: | 華燦光電(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/78 | 分類號: | H01L21/78;H01L33/00;B23K26/38 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司11138 | 代理人: | 徐立 |
| 地址: | 215600 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 發光二極管 切割 方法 | ||
1.一種發光二極管的切割方法,其特征在于,所述切割方法包括:
將晶元的第一表面粘附在第一膠膜上,所述晶元包括Si襯底、設置在所述Si襯底的第一表面的P型電極、以及依次層疊在所述Si襯底的第二表面的鍵合層、電流擴展層、P型限制層、多量子阱層、N型限制層、N型電極,所述Si襯底的第二表面為與所述Si襯底的第一表面相反的表面,所述晶元的第一表面為設置有所述P型電極的表面;
對所述晶元的第二表面進行激光切割,所述晶元的第二表面為與所述晶元的第一表面相反的表面;
去除所述第一膠膜,將所述晶元的第二表面粘附在第二膠膜上;
對所述晶元的第一表面進行激光切割;
對所述晶元的第一表面進行劈裂,得到若干獨立的發光二極管芯片;
所述對所述晶元的第二表面進行激光切割,包括:
對所述晶元的第二表面進行兩次激光切割;
其中,第一次激光切割的功率大于第二次激光切割的功率。
2.根據權利要求1所述的切割方法,其特征在于,對所述晶元的第二表面進行激光切割的深度為所述晶元的厚度的15%~20%。
3.根據權利要求1或2所述的切割方法,其特征在于,對所述晶元的第一表面進行激光切割的深度為所述晶元的厚度的40%~50%。
4.根據權利要求1或2所述的切割方法,其特征在于,所述第一膠膜包括聚氯乙烯PVC基材和亞克力系粘著劑。
5.根據權利要求1或2所述的切割方法,其特征在于,所述第二膠膜包括聚氯乙烯PVC基材和亞克力系粘著劑。
6.根據權利要求1或2所述的切割方法,其特征在于,在所述對所述晶元的第二表面進行激光切割之前,所述切割方法還包括:
在所述晶元的第二表面上涂上激光切割保護膠。
7.根據權利要求6所述的切割方法,其特征在于,所述激光切割保護膠包括聚乙烯醇。
8.根據權利要求1或2所述的切割方法,其特征在于,在所述對所述晶元的第一表面進行劈裂之前,所述切割方法還包括:
在所述晶元的第一表面覆蓋聚對苯二甲酸乙二酯PET薄膜。
9.根據權利要求8所述的切割方法,其特征在于,所述PET薄膜與所述晶元的第一表面相貼的表面涂有硅油。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





