[發(fā)明專利]反哺嬰兒輔食研磨器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610063759.3 | 申請日: | 2016-01-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105455683A | 公開(公告)日: | 2016-04-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭德保;田煒霖;黃斯瑋;李想;盧文;郭德乾;李富梅;朱建芳;易振仁;莫慶原;孫姝瑤 | 申請(專利權(quán))人: | 恭城瑤族自治縣恭城中學(xué) |
| 主分類號(hào): | A47J43/04 | 分類號(hào): | A47J43/04;A47J43/07 |
| 代理公司: | 桂林市持衡專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 45107 | 代理人: | 林培 |
| 地址: | 542500 廣西壯族自治*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 反哺 嬰兒 研磨 | ||
1.反哺嬰兒輔食研磨器,包括研磨盤(1)和承接皿(3);其特征在于:研磨盤(1)為一個(gè)上部敞口的凹腔;研磨盤(1)的側(cè)壁上設(shè)有出料口(1-1);研磨盤(1)的底部設(shè)有凸起底盤(1-4),凸起底盤(1-4)上設(shè)置有若干個(gè)磨齒(1-3);研磨盤(1)所處高度高于承接皿(3)的高度,且研磨盤(1)的出料口位于承接皿(3)的正上方;所述研磨盤(1)的底面相對水平面傾斜設(shè)置,且向出料口(1-1)一側(cè)傾斜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反哺嬰兒輔食研磨器,其特征在于:所述研磨盤(1)的傾斜角(1-2)角度為3°-45°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的反哺嬰兒輔食研磨器,其特征在于:所述研磨盤(1)底部設(shè)置有中空的支架(2),該支架(2)的中空處為供承接皿(3)存放的放置柜(2-1)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的反哺嬰兒輔食研磨器,其特征在于:所述支架(2)為三棱柱支架。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反哺嬰兒輔食研磨器,其特征在于:所述承接皿(3)的正下方設(shè)有加熱器。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的反哺嬰兒輔食研磨器,其特征在于:所述加熱器為陶瓷熱敏元件(3-4)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反哺嬰兒輔食研磨器,其特征在于:所述承接皿(3)的側(cè)壁上設(shè)有承接皿嘴(3-1)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的反哺嬰兒輔食研磨器,其特征在于:所述承接皿(3)的側(cè)壁上設(shè)置有手柄(3-2)。
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