[發(fā)明專利]一種基于石墨烯的光濾波器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610062949.3 | 申請日: | 2016-01-30 |
| 公開(公告)號: | CN105700201B | 公開(公告)日: | 2018-07-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 賀夢冬;彭宇翔;王凱軍 | 申請(專利權(quán))人: | 中南林業(yè)科技大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/00 | 分類號: | G02F1/00;G02F1/01 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 410004 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 石墨烯 電解質(zhì)層 金屬電極 光耦合結(jié)構(gòu) 光濾波器 金屬光柵 條帶陣列 介質(zhì)層 襯底 柵極電壓調(diào)節(jié) 調(diào)節(jié)裝置 費米能級 濾波器件 品質(zhì)因數(shù) 微腔陣列 主動控制 耦合器件 工藝流程 傳統(tǒng)的 多層膜 工作頻 同頻段 頂柵 功耗 刻蝕 微腔 過濾 響應(yīng) 引入 調(diào)控 成熟 加工 | ||
1.一種基于石墨烯的光濾波器件,其特征在于:包括光耦合結(jié)構(gòu),所述光耦合結(jié)構(gòu)包括電解質(zhì)層、金屬電極、石墨烯條帶陣列、二氧化硅介質(zhì)層、金屬光柵和襯底,所述電解質(zhì)層與金屬電極之間設(shè)置有頂柵電壓的調(diào)節(jié)裝置;所述二氧化硅介質(zhì)層位于石墨烯條帶陣列和金屬光柵之間,所述石墨烯條帶陣列、二氧化硅介質(zhì)層、金屬光柵構(gòu)成Fabry-Perot微腔陣列,位于襯底上,所述電解質(zhì)層和金屬電極分別位于Fabry-Perot微腔的上方的同一平面上,所述金屬光柵位于襯底上,所述電解質(zhì)層和金屬電極與石墨烯條帶陣列相對設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于石墨烯的光濾波器件,其特征在于:所述金屬光柵為金光柵或者銀光柵。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于石墨烯的光濾波器件,其特征在于:所述石墨烯條帶陣列中的石墨烯條帶與金屬光柵間隔設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于石墨烯的光濾波器件,其特征在于:所述石墨烯條帶陣列中石墨烯條帶的寬為200-900納米;所述金屬光柵中相鄰兩條金屬的縫寬為20-90納米,所述金屬光柵中金屬的厚度為40-100納米。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于石墨烯的光濾波器件,其特征在于:所述石墨烯條帶陣列中石墨烯條帶的寬為720納米;所述金屬光柵中相鄰兩條金屬的縫寬為40納米,所述金屬光柵中金屬的厚度為80納米。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于石墨烯的光濾波器件,其特征在于:所述石墨烯條帶陣列的周期為2-9微米;金屬光柵的周期為2-9微米。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的基于石墨烯的光濾波器件,其特征在于:所述石墨烯條帶陣列的周期和金屬光柵的周期均為8微米。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于石墨烯的光濾波器件,其特征在于:所述二氧化硅介質(zhì)層的厚度為10-900納米;所述襯底為碳化硅層,所述碳化硅層的厚度為200-1000納米。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基于石墨烯的光濾波器件,其特征在于:所述二氧化硅介質(zhì)層的厚度為20納米;碳化硅層的厚度為500納米。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中南林業(yè)科技大學(xué),未經(jīng)中南林業(yè)科技大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610062949.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:光控裝置和包含該光控裝置的燈具
- 下一篇:一種防水防輻射防紫外線眼鏡片
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





