[發(fā)明專利]硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米管陣列材料及其制備方法和應(yīng)用在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610062344.4 | 申請日: | 2016-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN105664834A | 公開(公告)日: | 2016-06-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 晏銘;賴萃;曾光明;李小明;陶林暄;張鵬;張海波;王菡;常慧敏;陳晨;楊光 | 申請(專利權(quán))人: | 湖南大學(xué) |
| 主分類號: | B01J20/02 | 分類號: | B01J20/02;B01J20/06;C02F1/28;C02F101/20;C02F101/30 |
| 代理公司: | 湖南兆弘專利事務(wù)所 43008 | 代理人: | 趙洪;黃麗 |
| 地址: | 410082 湖南省長沙*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 硅烷偶聯(lián)劑 修飾 氧化 納米 陣列 材料 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于納米材料修飾和水處理技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦 納米管陣列材料及其制備方法和在去除含有機污染物和/或重金屬污染物廢水中的應(yīng)用。
背景技術(shù)
TiO2光催化技術(shù)是目前備受矚目的去除環(huán)境污染物的新型方法。TiO2受光照射后 產(chǎn)生電子-空穴對,電子有較強還原能力,空穴具有較強氧化能力。利用電子-空穴的協(xié)同作 用,同時去除環(huán)境中的有機污染物和還原重金屬,成為當(dāng)前催化和環(huán)保研究中的一個熱點。 但是由于TiO2表面具有大量的羥基,因此對親脂類的持久性有機污染物的結(jié)合能力較弱。
TiO2最常用的納米形態(tài)包括粉體、薄膜和與載體構(gòu)成復(fù)合材料。目前研究最多的 為粉體形態(tài)。但是粉體材料在工程中應(yīng)用時存在不易分散、易團聚、難回收利用和易造成二 次污染等問題,限制了其在環(huán)境污染物去除中的應(yīng)用。2001年Grimes小組第一次報道了制 備TiO2納米管陣列的方法,該方法制備的納米管陣列由于易回收、制備方法簡便的特性大 大提高了TiO2光催化劑在環(huán)境污染去除中的應(yīng)用。然而,仍然不能解決與親脂類有機污染 物的結(jié)合問題。因此,尋求一種可同時有效去除環(huán)境中的有機污染物和還原重金屬的催化 劑成為當(dāng)務(wù)之急。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種氧化還原能力強、可 同時去除有機污染物和重金屬污染物,且去除效果好的硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米管陣 列材料及其制備方法和應(yīng)用。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
一種硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米管陣列材料,所述硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米管 陣列材料主要由二氧化鈦納米管陣列、硅烷偶聯(lián)劑、有機溶劑和冰醋酸混合后反應(yīng)得到。
作為一個總的發(fā)明構(gòu)思,本發(fā)明還提供了一種硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米管陣 列材料的制備方法,包括以下步驟:將二氧化鈦納米管陣列、硅烷偶聯(lián)劑、有機溶劑和冰醋 酸混合,經(jīng)反應(yīng)后,得到硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米管陣列材料。
上述的硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米管陣列材料的制備方法中,優(yōu)選的,所述硅 烷偶聯(lián)劑的質(zhì)量占所述硅烷偶聯(lián)劑與有機溶劑質(zhì)量之和的0.1%~20%。
上述的硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米管陣列材料的制備方法中,優(yōu)選的,所述有 機溶劑為甲苯。
上述的硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米管陣列材料的制備方法中,優(yōu)選的,所述反 應(yīng)的溫度為50℃~80℃,所述反應(yīng)的時間為0.5h~8h。
上述的硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米管陣列材料的制備方法中,優(yōu)選的,所述硅 烷偶聯(lián)劑為硅烷偶聯(lián)劑KH-570。
作為一個總的發(fā)明構(gòu)思,本發(fā)明還提供上述的硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米管陣 列材料或上述的制備方法制得的硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米管陣列材料在處理含有機 污染物和/或重金屬污染物的廢水中的應(yīng)用。
上述的應(yīng)用中,優(yōu)選的,所述應(yīng)用包括以下步驟:將硅烷偶聯(lián)劑修飾二氧化鈦納米 管陣列材料加入含有機污染物和/或重金屬污染物的廢水中進行光催化反應(yīng),完成對廢水 的處理。
上述的應(yīng)用中,優(yōu)選的,所述光催化反應(yīng)過程中的pH值為3~6。
硅烷偶聯(lián)劑是一類在分子中同時含有兩種不同化學(xué)性質(zhì)基團的有機硅化合物,其 經(jīng)典產(chǎn)物可用通式Y(jié)SiX3表示。式中,Y為非水解基團,包括鏈烯基(主要為乙烯基),以及末 端帶有Cl、NH2、SH、環(huán)氧、N3、(甲基)丙烯酰氧基或異氰酸酯基等官能團烴基,也就是碳官能 基;X為可水解基團,包括Cl、OMe、OEt、OC2H4OCH3、OSiMe3或OAc等。由于這一特殊結(jié)構(gòu),在其 分子中同時具有能和無機質(zhì)材料(如玻璃、硅砂、金屬等)化學(xué)結(jié)合的反應(yīng)基團及與有機質(zhì) 材料(合成樹脂等)化學(xué)結(jié)合的反應(yīng)基團,可以用于表面處理。
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