[發明專利]曝光裝置、曝光方法、及元件制造方法

在審

• 申請號: 201610055966.4
• 申請日: 2008-07-16
• 公開（公告）號: CN105487351A
• 公開（公告）日: 2016-04-13
• 發明（設計）人: 荒井大
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;王娟娟

1.一種曝光裝置，通過投影光學系統用照明光曝光基板，其特征在于其具備：

支撐該投影光學系統的框架構件；

與該投影光學系統分離地設置于該框架構件，檢測該基板的標記的檢測系統；

分別具有反射型格子的多個格子構件，該多個格子構件以使該反射型格子與正交于該 投影光學系統的光軸的既定面大致平行地排列的方式支撐于該框架構件；

配置于該投影光學系統及該檢測系統的下方的基座；

配置于該基座上，具有保持該基板的保持具，且可在該多個格子構件的下方移動的載 臺；

以使該基板分別與該投影光學系統及該檢測系統對向配置的方式移動該載臺的驅動 系統；

編碼器系統，具有設置于該載臺且分別從該多個格子構件的下方對該多個格子構件照 射光束的多個讀頭，該編碼器系統測量該載臺的位置資訊；以及

基于該編碼器系統測量到的位置資訊，控制該驅動系統的控制裝置，

該多個格子構件經由撓曲構件支撐于該框架構件。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于其中,

該保持具配置在該載臺的上面的凹部內，

該多個讀頭分別以與該上面相比位于外側的方式設置于該載臺。

3.根據權利要求1或2所述的曝光裝置，其特征在于其中,

還具備嘴單元，該嘴單元以包圍該投影光學系統的多個光學元件中最靠近像面側配置 的透鏡的方式設置，以包含該透鏡與該基板之間的該照明光的光路的方式用液體形成液浸 區域，

該多個格子構件相對于該嘴單元配置于其外側，

通過該投影光學系統和該液浸區域的液體用該照明光曝光該基板。

4.根據權利要求3所述的曝光裝置，其特征在于其中,

該嘴單元具有該液體的供應口、該液體的回收口以及供該照明光通過的開口，

通過該供應口向該光路供應液體，并且通過該回收口回收該液浸區域的液體。

5.根據權利要求3或4所述的曝光裝置，其特征在于其中,

還具備與該框架構件不同的框架構件，

該嘴單元設置于該不同的框架構件。

6.根據權利要求3或4所述的曝光裝置，其特征在于其中,

該嘴單元設置于該框架構件。

7.根據權利要求3至6中任一項所述的曝光裝置，其特征在于其中,

該保持具配置于該載臺的上面的凹部內，

該載臺以使該基板的表面與該上面大致為同一面的方式將該基板保持在該凹部內。

8.一種曝光方法，通過投影光學系統用照明光曝光基板，其特征在于，具有：

在基座上移動具有保持該基板的保持具的載臺，以通過檢測系統檢測該基板的標記， 其中，該檢測系統與該投影光學系統分離地支撐于框架構件，該框架構件支撐該投影光學 系統，該基座配置在該投影光學系統及該檢測系統的下方；

移動該載臺以通過該投影光學系統用該照明光曝光該基板；

通過編碼器系統測量該載臺的位置資訊，其中，該編碼器系統具有設置于該載臺的多 個讀頭，該多個讀頭分別從多個格子構件的下方對該多個格子構件照射光束，該多個格子 構件分別具有反射型格子，且該多個格子構件以使該反射型格子與正交于該投影光學系統 的光軸的既定面大致平行地排列的方式支撐于該框架構件；

基于該編碼器系統測量到的位置資訊，控制該載臺的移動，

該多個格子構件經由撓曲構件而被支撐于該框架構件。

9.根據權利要求8所述的曝光方法，其特征在于其中,

該保持具配置在該載臺的上面的凹部內，

該多個讀頭分別以與該上面相比位于外側的方式設置于該載臺。