[發(fā)明專(zhuān)利]拋光盤(pán)、拋光裝置及高亮度耐磨金屬鏡面粗拋工藝

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610053517.6
• 申請(qǐng)日: 2016-01-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105666315A
• 公開(kāi)（公告）日: 2016-06-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐金根;王海明
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 科森科技東臺(tái)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B24B37/16
• 分類(lèi)號(hào): B24B37/16;B24B37/30;B24B37/32;B24B37/10
• 代理公司: 北京品源專(zhuān)利代理有限公司 11332
• 代理人: 張海英;林波

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及研磨技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種拋光盤(pán)、拋光裝置及高亮度耐 磨金屬鏡面粗拋工藝。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)中，高亮度耐磨金屬鏡面在加工時(shí)，利用鐵盤(pán)及承載治具的自 轉(zhuǎn)的速度及加拋光液方式拋金屬表面，使金屬表面發(fā)亮并拋去表面撞劃傷以 及材料紋路，以便精拋后達(dá)到鏡面等級(jí)。這種鐵盤(pán)的結(jié)構(gòu)如圖1所示，其在 研磨過(guò)程中，由于使用鐵盤(pán)1進(jìn)行研磨，從而使得研磨量不穩(wěn)定，研磨大， 容易產(chǎn)生鐵屑，產(chǎn)品表面劃傷嚴(yán)重，表面紋路過(guò)粗，精拋不容易去除研磨紋 路，拋光時(shí)間長(zhǎng)及報(bào)廢高。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提出一種拋光盤(pán)、拋光裝置及高亮度耐磨金屬鏡面粗 拋工藝，其研磨量容易控制、能夠及時(shí)排屑，從而避免產(chǎn)品研磨出的廢屑劃 傷表面，研磨時(shí)間短，良品高。

為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一方面，本發(fā)明提供一種拋光盤(pán)，所述拋光盤(pán)為銅質(zhì)的圓形盤(pán)，所述拋 光盤(pán)的拋光面開(kāi)設(shè)有排屑槽。

其中，所述排屑槽包括沿著徑向開(kāi)設(shè)的徑向排屑槽、及以所述拋光盤(pán)的 中心為圓心的多個(gè)環(huán)向排屑槽，所述徑向排屑槽與所述環(huán)向排屑槽連通。

其中，所述徑向排屑槽的數(shù)量為8個(gè)，相鄰兩個(gè)所述徑向排屑槽之間的 夾角為45°。

其中，所述環(huán)向排屑槽的數(shù)量為3個(gè)，相鄰兩個(gè)所述環(huán)向排屑槽之間的 距離相等。

其中，所述橫向排屑槽與所述環(huán)向排屑槽的開(kāi)槽深度為0.15mm。

其中，所述拋光盤(pán)的直徑為640mm。

另一方面，本發(fā)明還提供一種拋光裝置，包括所述拋光盤(pán)，所述拋光盤(pán) 的頂面設(shè)置有載治具，所述載治具的頂部設(shè)置有配重塊，所述載治具、所述 配重塊的外側(cè)套設(shè)有陶瓷擋圈，研磨產(chǎn)品設(shè)置于所述載治具與所述拋光盤(pán)之 間，且所述陶瓷擋圈將所述研磨產(chǎn)品固定在其內(nèi)側(cè)。

再一方面，本發(fā)明又提供一種采用所述拋光裝置的高亮度耐磨金屬鏡面 粗拋工藝，包括以下步驟：

步驟一、清洗拋光盤(pán)：用水槍沖洗所述拋光盤(pán)的表面的臟污，檢查所述 拋光盤(pán)的表面是否處理干凈；

步驟二、安裝研磨產(chǎn)品：將所述研磨產(chǎn)品置于步驟一清洗后的所述拋光 盤(pán)的表面；

步驟三、安裝載治具：將所述載治具置于步驟二安裝的研磨產(chǎn)品的頂面；

步驟四、安裝配重塊：將所述配重塊置于步驟三安裝的所述載治具的頂 面；

步驟五、安裝陶瓷擋圈：將所述陶瓷擋圈套設(shè)于所述研磨產(chǎn)品、載治具、 配重塊的外側(cè)，以將所述研磨產(chǎn)品固定在所述研磨產(chǎn)品內(nèi)側(cè)。

本發(fā)明的有益效果為：

本發(fā)明的拋光盤(pán)、拋光裝置及粗拋工藝，由于采用銅質(zhì)的圓形盤(pán)，因其 料軟，因而在研磨過(guò)程中研磨量容易控制，并且通過(guò)設(shè)置的排屑槽可以及時(shí) 將研磨產(chǎn)生的廢屑排出，有利于研磨過(guò)程的持續(xù)，也就能夠避免研磨出的廢 屑劃傷研磨產(chǎn)品的表面，研磨時(shí)間短、良品高。

附圖說(shuō)明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中的鐵盤(pán)的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明的拋光盤(pán)的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是本發(fā)明的拋光盤(pán)的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4是本發(fā)明的拋光盤(pán)的主視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5是本發(fā)明的拋光裝置的主視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1-鐵盤(pán)；2-拋光盤(pán)；3-載治具；4-配重塊；5-陶瓷擋圈；6-研磨產(chǎn) 品；21-徑向排屑槽；22-環(huán)向排屑槽。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖并通過(guò)具體實(shí)施方式來(lái)進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案。

如圖2至4所示，本發(fā)明提供的一種拋光盤(pán)，所述拋光盤(pán)2為銅質(zhì)的圓 形盤(pán)，所述拋光盤(pán)2的拋光面開(kāi)設(shè)有排屑槽。

由于采用銅質(zhì)的圓形盤(pán)，因其料軟，因而在研磨過(guò)程中研磨量容易控 制，并且通過(guò)設(shè)置的排屑槽可以及時(shí)將研磨產(chǎn)生的廢屑排出，有利于研磨 過(guò)程的持續(xù)，也就能夠避免研磨出的廢屑劃傷研磨產(chǎn)品的表面，研磨時(shí)間 短、良品高。

具體地，所述排屑槽包括沿著徑向開(kāi)設(shè)的徑向排屑槽21、及以所述拋光 盤(pán)2的中心為圓心的多個(gè)環(huán)向排屑槽22，所述徑向排屑槽21與所述環(huán)向排 屑槽22連通。

優(yōu)選的，在本實(shí)施例中，所述徑向排屑槽21的數(shù)量為8個(gè)，相鄰兩個(gè) 所述徑向排屑槽21之間的夾角為45°。