[發(fā)明專利]一種柔性電致變色薄膜及制備方法、電致變色器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610052580.8 | 申請日: | 2016-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN105573001B | 公開(公告)日: | 2019-06-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 俞書宏;王金龍;劉建偉 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)技術(shù)大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/15 | 分類號: | G02F1/15;G02F1/153 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 趙青朵 |
| 地址: | 230026 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 柔性 變色 薄膜 制備 方法 器件 | ||
1.一種柔性電致變色薄膜,其特征在于,包括柔性透明基底、銀納米線和氧化鎢納米線共組裝的第一層納米線薄膜、以及銀納米線和氧化鎢納米線共組裝的第二層納米線薄膜;
所述銀納米線為有序排列;所述氧化鎢納米線為有序排列;
所述第一層納米線薄膜復(fù)合在柔性透明基底上;
所述第二層納米線薄膜交叉復(fù)合在所述第一層納米線薄膜上;
所述交叉的角度為30°~150°。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性電致變色薄膜,其特征在于,還包括復(fù)合在所述第二層納米線薄膜上的一層或多層氧化鎢納米線薄膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的柔性電致變色薄膜,其特征在于,所述第一層納米線薄膜中,銀和氧化鎢的質(zhì)量比為(0.5~10):1;
所述第二層納米線薄膜中,銀和氧化鎢的質(zhì)量比為(0.5~10):1。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的柔性電致變色薄膜,其特征在于,所述銀納米線的直徑為50~100nm,長度為10~20μm;所述氧化鎢納米線的直徑為2~8nm,長度為10~20μm;
所述第一層納米線薄膜的厚度大于等于100nm,所述第二層納米線薄膜的厚度大于等于100nm。
5.一種柔性電致變色薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
A1)將銀納米線溶液、氧化鎢納米線溶液、雙親性溶劑和非極性溶劑進(jìn)行混合后,得到的分散液;
A2)采用朗格繆爾-布吉特技術(shù),將上述步驟得到的分散液在氣液界面上進(jìn)行組裝后,得到銀納米線和氧化鎢納米線共組裝的第一層納米線薄膜;
重復(fù)上述A2)步驟操作后,得到銀納米線和氧化鎢納米線共組裝的第二層納米線薄膜;
A3)將上述步驟得到第一層納米線薄膜復(fù)合在所述柔性透明基底上,再將上述步驟得到第二層納米線薄膜交叉復(fù)合在所述第一層納米線薄膜上,得到柔性電致變色薄膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,所述步驟A3)后還包括:
A4)將氧化鎢納米線溶液、雙親性溶劑和非極性溶劑進(jìn)行混合后,得到的氧化鎢納米線分散液;
A5)采用朗格繆爾-布吉特技術(shù),將上述步驟得到的氧化鎢納米線分散液在氣液界面上進(jìn)行組裝后,得到單層氧化鎢納米線薄膜;
A6)將步驟A5)得到的單層氧化鎢納米線薄膜再次復(fù)合在步驟A3)后的第二層納米線薄膜上,得到柔性電致變色薄膜;
或是重復(fù)步驟A5),得到的多個單層氧化鎢納米線薄膜,然后層層復(fù)合在步驟A3)后的第二層納米線薄膜上,得到柔性電致變色薄膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,所述銀納米線溶液和氧化鎢納米線溶液的體積比為(1~3):20;所述銀納米線溶液的濃度為0.004~0.04g/mL,所述氧化鎢納米線溶液的濃度為0.0001~0.001g/mL;
所述雙親性溶劑為N,N-二甲基甲酰胺,所述非極性溶劑為三氯甲烷。
8.一種電致變色器件,其特征在于,包括權(quán)利要求1~4任意一項所述的柔性電致變色薄膜或權(quán)利要求5~7任意一項所制備的柔性電致變色薄膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電致變色器件,其特征在于,所述電致變色器件至少包括三層復(fù)合結(jié)構(gòu);
所述第一層為權(quán)利要求1~4任意一項所述的柔性電致變色薄膜或權(quán)利要求5~7任意一項所制備的柔性電致變色薄膜;
所述第二層為離子導(dǎo)電層;
所述第三層為導(dǎo)電膜。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學(xué)技術(shù)大學(xué),未經(jīng)中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610052580.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





