[發明專利]一種防止鏡組霧化的曝光裝置

有效

• 申請號: 201610049941.3
• 申請日: 2016-01-26
• 公開（公告）號: CN105487350B
• 公開（公告）日: 2018-02-13
• 發明（設計）人: 袁夏梁
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司44304
• 代理人: 孫偉峰

1.一種防止鏡組霧化的曝光裝置，其特征在于，包括容納有光源(11)和第一反射鏡(12)的光學腔室(10)、用于放置基板(1)和光罩(2)的處理腔室(20)、連通所述光學腔室(10)和所述處理腔室(20)的光路腔室(30)以及透光的遮擋層(40)，所述第一反射鏡(12)朝向所述基板(1)投射光線，所述遮擋層(40)設置在所述第一反射鏡(12)的出射光路上，且位于所述第一反射鏡(12)和所述光罩(2)之間，且所述遮擋層(40)的四周背向所述第一反射鏡(12)翻折形成一圈翻邊。

2.根據權利要求1所述的防止鏡組霧化的曝光裝置，其特征在于，所述學腔室(10)還包括依次設置的集光鏡(13)、第二反射鏡(14)、積光器(15)和第三反射鏡(16)，所述光源(11)發出的光線依次經過所述集光鏡(13)、所述第二反射鏡(14)、所述積光器(15)和所述第三反射鏡(16)后，自所述第一反射鏡(12)反射至所述光罩(2)。

3.根據權利要求2所述的防止鏡組霧化的曝光裝置，其特征在于，所述第二反射鏡(14)和所述第三反射鏡(16)分別位于所述光學腔室(10)的光線出口兩側。

4.根據權利要求3所述的防止鏡組霧化的曝光裝置，其特征在于，所述第三反射鏡(16)為弧面反射鏡。

5.根據權利要求1所述的防止鏡組霧化的曝光裝置，其特征在于，所述處理腔室(20)內的氣壓大于所述光學腔室(10)。

6.根據權利要求1所述的防止鏡組霧化的曝光裝置，其特征在于，所述遮擋層(40)和所述光罩(2)之間設有真空抽氣裝置。

7.根據權利要求6所述的防止鏡組霧化的曝光裝置，其特征在于，所述遮擋層(40)設于所述光學腔室(10)內。

8.根據權利要求1所述的防止鏡組霧化的曝光裝置，其特征在于，所述遮擋層(40)為玻璃基板。

9.根據權利要求1-8任一所述的防止鏡組霧化的曝光裝置，其特征在于，所述遮擋層(40)與所述處理腔室(20)內的所述基板(1)平行。