[發明專利]一種輕質高效電磁屏蔽用石墨烯薄膜及其制備方法有效
| 申請號: | 201610049006.7 | 申請日: | 2016-01-25 |
| 公開(公告)號: | CN105731434B | 公開(公告)日: | 2018-08-31 |
| 發明(設計)人: | 李友良;高超;陳國貴;孫海燕;馮金茂;彭蠡;席嘉彬 | 申請(專利權)人: | 浙江偉星新型建材股份有限公司;浙江碳谷上希材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C01B32/184 | 分類號: | C01B32/184 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人: | 邱啟旺 |
| 地址: | 317000 *** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高效 電磁 屏蔽 石墨 薄膜 及其 制備 方法 | ||
1.一種輕質高效電磁屏蔽用石墨烯薄膜,其特征在于:所述薄膜的密度為0.005-0.1g/cm3,碳質量分數為95%以上;由平面取向的平均尺寸大于100μm的石墨烯片通過ππ共軛作用相互搭接而成,其中包含由1-4層石墨烯片構成的石墨烯結構;石墨烯片與片之間具有孔,孔的平均截面大小為10nm2-400μm2,孔隙率70%以上;且石墨烯片的缺陷極少,其ID/IG<0.01。
2.一種輕質高效電磁屏蔽用石墨烯薄膜的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)將平均尺寸大于100μm的氧化石墨烯配制成濃度為0.1-100mg/ml氧化石墨烯水溶液,在溶液中加入質量分數0.1-5%的助劑,所述助劑為無機鹽、有機小分子或高分子;超聲分散后,通過成膜方法制備成氧化石墨烯膜,然后用還原劑進行還原;
(2)將還原后的石墨烯薄膜在惰性氣體氛圍下先以0.1-1oC/min的速率升溫到500-800oC,保溫0.5-2h;
(3)在惰性氣體氛圍下以1-3oC/min的速率升溫到1000-1300oC,保溫0.5-3h;
(4)在惰性氣體氛圍下以5-8oC/min的速率升溫到2500-3000oC,保溫0.5-4h,自然降溫后即可得到輕質高效電磁屏蔽用石墨烯薄膜。
3.如權利要求2所述的一種輕質高效電磁屏蔽用石墨烯薄膜的制備方法,其特征在于:使用的成膜方法包括澆筑成型烘干法、刮膜烘干法、相轉化法、噴涂法。
4.如權利要求2所述的一種輕質高效電磁屏蔽用石墨烯薄膜的制備方法,其特征在于:所述的無機鹽選自碳酸氫銨;有機小分子選自甘油、尿素、硫脲、偶氮二甲酰胺;高分子選自纖維素、明膠、殼聚糖、水性聚氨酯、丙烯酸乳液、聚乙二醇200、聚乙二醇400。
5.如權利要求2所述的一種輕質高效電磁屏蔽用石墨烯薄膜的制備方法,其特征在于:氧化石墨烯膜采用水合肼、抗壞血酸或碘化氫進行還原。
6.如權利要求2所述的一種輕質高效電磁屏蔽用石墨烯薄膜的制備方法,其特征在于,所述步驟1中平均尺寸大于100μm的氧化石墨烯通過以下方法得到:
(1)將Modified-Hummer法獲得的氧化石墨片的反應液稀釋后,于140目的網篩進行過濾,得到過濾產物;
(2)將步驟1獲得的過濾產物于冰水按照體積比1:10混合均勻后,靜置2h,逐滴加入雙氧水,H2O2的質量分數為30%,直到混合液的顏色不再改變,即混合液中的高錳酸鉀已完全去除;
(3)向步驟2處理后的混合液中逐滴加入濃鹽酸,濃度為12mol/L,直到絮狀的氧化石墨消失,再用140目的網篩過濾出氧化石墨晶片;
(4)將步驟3獲得的氧化石墨晶片置于搖床中,20~80轉/min,震蕩洗滌,使得氧化石墨晶片剝離,得到無碎片超大片的氧化石墨烯,分布系數在0.2-0.5之間。
7.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,所述步驟1中的Modified-Hummer法具體為:在-10oC下,將高錳酸鉀充分溶解于質量分數為98%的濃硫酸中,加入石墨,60轉/分鐘攪拌2h后停止攪拌,在-10-20oC的低溫下反應6-48h,得到寬分布的氧化石墨片反應液;所述的石墨、高錳酸鉀與濃硫酸質量體積比為:1 g:2-4g:30-40ml,石墨的粒度大于150μm。
8.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,所述網篩為鈦合金網篩。
9.根據權利要求6所述的方法,其特征在于,所述步驟1中,氧化石墨片的反應液通過濃硫酸稀釋劑進行稀釋,稀釋劑的體積為反應液體積的1-10倍。
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