[發(fā)明專利]一種消除反射影像的玻璃有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610047476.X | 申請日： | 2016-01-25 |
| 公開（公告）號： | CN105731824B | 公開（公告）日： | 2021-02-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 盧賢宇;周明軍;宋德生 | 申請（專利權(quán)）人： | 東莞市奧百通納米科技有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/34 | 分類號： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 湯東鳳 |
| 地址： | 523000 廣東省東莞市謝崗鎮(zhèn)大龍村涼*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 消除 反射 影像 玻璃 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種消除反射影像的玻璃的制備工藝，其特征在于：包括以下步驟：
S1、對玻璃基片進(jìn)行清洗，并烘干；
S2、對烘干后的玻璃基片進(jìn)行等離子處理；
S3、對經(jīng)步驟S2處理后的玻璃基片進(jìn)行納米二氧化硅噴涂液的噴涂，形成功能納米二氧化硅消影層；
S4、對經(jīng)步驟S3處理后的玻璃基片進(jìn)行初烘，烘干溫度為200～250℃，烘干時間為30min；
S5、經(jīng)步驟S4處理后，在玻璃基片噴涂功能納米二氧化硅消影層的表面進(jìn)行磁控濺射，鍍制增透層，增透層為二氧化鈦層或五氧化二鈮層；
S6、對經(jīng)步驟S5處理后的玻璃進(jìn)行熱彎處理；
S7、對熱彎處理后的玻璃進(jìn)行鋼化處理，即得成品；
所述的納米二氧化硅噴涂液包括以下組分，且各組分的重量比為：
硅氮烷40～50，納米二氧化硅分散液15～30，丙二醇甲醚醋酸酯20-55；
所述的鋼化處理溫度為680-710℃，所述納米二氧化硅分散液為納米SiO2有機化改性物20％～25％
丙二醇甲醚65％～70％
濕潤分散劑10％～15％。
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