[發(fā)明專利]基于宇宙射線的檢查對象的方法、裝置及系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610046515.4 | 申請日: | 2016-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN105700029B | 公開(公告)日: | 2018-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 康克軍;陳志強;李元景;趙自然;李君利;王學(xué)武;劉耀紅;曾志;顧建平;梁松;劉必成;徐光明;王永強 | 申請(專利權(quán))人: | 清華大學(xué);同方威視技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號: | G01V5/00 | 分類號: | G01V5/00 |
| 代理公司: | 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438 | 代理人: | 姜怡;闞梓瑄 |
| 地址: | 10008*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 宇宙射線 檢查 對象 方法 裝置 系統(tǒng) | ||
1.一種基于宇宙射線的檢查對象的方法,其特征在于,包括:
利用監(jiān)控設(shè)備記錄受檢查對象的運動軌跡,其中所述監(jiān)控設(shè)備包括:熱成像儀、攝像頭、壓力傳感器、光學(xué)傳感器中的任意一種或幾種的組合;
利用位置靈敏探測器獲取所述宇宙射線中的帶電粒子信息,所述帶電粒子信息包括所述帶電粒子徑跡信息;
將所述運動軌跡和所述徑跡信息進行位置符合,確定所述對象;
根據(jù)所述帶電粒子信息進行所述帶電粒子的徑跡重建;
根據(jù)所述徑跡重建,識別所述對象內(nèi)部的材料。
2.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,配置所述位置靈敏探測器具有檢測來自所述宇宙射線的帶電粒子μ子和電子的能力。
3.如權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,配置所述位置靈敏探測器具有檢測包括原子序數(shù)大于鋁的中至高原子序數(shù)材料和原子序數(shù)低于鋁的低原子序數(shù)材料的能力,其中
利用所述電子的阻擋作用分辨所述低原子序數(shù)材料;
利用所述μ子的散射作用分辨所述中至高原子序數(shù)材料。
4.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,其中所述位置靈敏探測器包括GEM探測器、MRPC探測器、漂移室或漂移管陣列。
5.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述位置靈敏探測器配置作為行人檢查系統(tǒng)的一部分,其中所述位置靈敏探測器放置在檢查通道中,其中要檢查的行人穿過所述位置靈敏探測器。
6.如權(quán)利要求3所述的方法,其特征在于,其中所述根據(jù)所述帶電粒子信息進行所述帶電粒子的徑跡重建包括:
根據(jù)所述帶電粒子的徑跡信息計算所述材料的Ratio參數(shù),預(yù)估所述材料的初始原子序數(shù)值和初始相對質(zhì)量數(shù),其中所述Ratio參數(shù)是所述材料對所述帶電粒子的散射參數(shù)和阻擋參數(shù)的比值;
根據(jù)所述初始原子序數(shù)值和初始相對質(zhì)量數(shù)與輻射長度的關(guān)系,計算輻射長度;
根據(jù)所述輻射長度獲得所述材料厚度;
根據(jù)所述初始原子序數(shù)值、初始相對質(zhì)量數(shù)和所述材料厚度,計算所述材料的阻擋參數(shù)和散射參數(shù);
利用所述阻擋參數(shù)和所述散射參數(shù)識別所述材料,其中利用所述帶電粒子中的電子的阻擋作用分辨所述低原子序數(shù)材料,利用所述帶電粒子中的μ子的散射作用分辨所述中至高原子序數(shù)材料。
7.如權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,還包括:根據(jù)所述阻擋參數(shù)、散射參數(shù)與材料特性的對應(yīng)關(guān)系,利用成像算法重建材料分布圖,其中所述成像算法包括PoCA算法和/或MLSD-OSEM算法。
8.如權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,還包括:更新材料信息,進行下一步迭代。
9.如權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,還包括:根據(jù)所述散射參數(shù)、阻擋參數(shù)與材料特性的對應(yīng)關(guān)系,確定所述運動對象的材料的分類特征,利用非參數(shù)檢驗方法判別所述材料。
10.如權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,其中所述徑跡重建中對所述帶電粒子的多條徑跡信息進行并行處理。
11.如權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,其中所述帶電粒子徑跡信息包括所述帶電粒子的入射時間、入射位置和入射方向以及出射時間、出射位置和出射方向。
12.如權(quán)利要求11所述的方法,其特征在于,其中將所述運動軌跡和所述徑跡信息進行位置符合,確定所述對象包括:
對所述入射時間和所述出射時間進行時間差分析;
根據(jù)所述入射位置、所述出射位置以及所述時間差分析,將所述帶電粒子的徑跡信息與所述對象的運動軌跡的時間和位置進行符合。
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