[發(fā)明專利]鼓泡式紫外/Fenton氧化有機(jī)廢氣的處理系統(tǒng)及處理方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610045797.6 | 申請(qǐng)日: | 2016-01-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105688641B | 公開(公告)日: | 2018-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳成強(qiáng);陳效;許李 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B01D53/79 | 分類號(hào): | B01D53/79;B01D53/74;B01D53/72 |
| 代理公司: | 杭州天正專利事務(wù)所有限公司33201 | 代理人: | 王兵,黃美娟 |
| 地址: | 310014 浙江省杭州*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鼓泡式 紫外 fenton 氧化 有機(jī) 廢氣 處理 系統(tǒng) 方法 | ||
1.鼓泡式紫外/Fenton氧化有機(jī)廢氣的處理裝置,其特征在于:包括氧化反應(yīng)室、鼓風(fēng)機(jī)以及雙氧水投加裝置,在所述的氧化反應(yīng)室內(nèi)盛放有Fenton試劑溶液,所述的氧化反應(yīng)室的頂部設(shè)置有排氣口,上部設(shè)置有雙氧水入口,下部設(shè)置有進(jìn)氣口,所述的鼓風(fēng)機(jī)通過廢氣管道與所述的進(jìn)氣口連接,所述的雙氧水投加裝置與所述的雙氧水入口連接;所述的氧化反應(yīng)室內(nèi)腔的上端垂直布置有若干用于安裝紫外燈的紫外燈管,所述的紫外燈管的下端插入Fenton試劑溶液內(nèi),所述的紫外燈管插入深度為Fenton試劑溶液液面下10-60cm,所述的紫外燈通過鎮(zhèn)流器與電源連接;所述的氧化反應(yīng)室的底端設(shè)置有盤式曝氣器,所述的進(jìn)氣口通過進(jìn)氣管與所述的盤式曝氣器連接。
2. 如權(quán)利要求1所述的鼓泡式紫外/Fenton氧化有機(jī)廢氣的處理裝置,其特征在于:在所述的Fenton試劑溶液中:Fe2+的濃度為8~40mg/L,H2O2的質(zhì)量濃度為0.01%~ 0.5%,pH為 2.0~3.0。
3.如權(quán)利要求2所述的鼓泡式紫外/Fenton氧化有機(jī)廢氣的處理裝置,其特征在于:所述的紫外燈的波長(zhǎng)為180~300nmm,相鄰的紫外燈管間的間距為10~30cm。
4.如權(quán)利要求3所述的鼓泡式紫外/Fenton氧化有機(jī)廢氣的處理裝置,其特征在于:所述的盤式曝氣器的直徑為50mm~100mm,服務(wù)面積0.05-0.08m2/個(gè)。
5.如權(quán)利要求4所述的鼓泡式紫外/Fenton氧化有機(jī)廢氣的處理裝置,其特征在于:所述的氧化反應(yīng)室為箱體或筒體結(jié)構(gòu),采用聚丙烯,改性聚丙烯、碳鋼內(nèi)襯橡膠或不銹鋼材質(zhì)制備。
6.如權(quán)利要求5所述的鼓泡式紫外/Fenton氧化有機(jī)廢氣的處理裝置,其特征在于:所述的氧化反應(yīng)室的高徑比或高寬比為3~5:1。
7.如權(quán)利要求6所述的鼓泡式紫外/Fenton氧化有機(jī)廢氣的處理裝置,其特征在于:所述的雙氧水投加裝置包括耐酸壓力泵和藥劑罐,所述的藥劑罐通過所述的耐酸壓力泵與所述的雙氧水入口連接。
8.一種基于如權(quán)利要求1~7之一所述的處理裝置的有機(jī)廢氣的處理方法,其特征在于:所述方法為:
(1)、首先將Fenton試劑溶液送入氧化反應(yīng)室中,同時(shí)打開紫外燈的電源;
(2)、開啟鼓風(fēng)機(jī)將待處理的有機(jī)廢氣經(jīng)進(jìn)氣口送入氧化反應(yīng)室,并在底部經(jīng)盤式曝氣器進(jìn)行鼓泡;開啟雙氧水投加裝置中的耐酸壓力泵將雙氧水經(jīng)雙氧水入口一次性或間隔投放到氧化反應(yīng)室,待處理的有機(jī)廢氣與Fenton試劑溶液充分接觸反應(yīng)后將有機(jī)廢氣中的有機(jī)物大分子氧化成小分子,處理后的廢氣由排氣口排出。
9.如權(quán)利要求8所述的處理方法,其特征在于:所述的雙氧水的間隔投放的間隔時(shí)間為30-45min,保持氧化反應(yīng)室內(nèi)的雙氧水的質(zhì)量濃度和pH不變。
10.如權(quán)利要求9所述的處理方法,其特征在于:所述的待處理的有機(jī)廢氣在氧化反應(yīng)室內(nèi)的停留時(shí)間為20~60s。
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