[發(fā)明專利]顯示基板、顯示面板及其制備方法和工作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610045329.9 | 申請日: | 2016-01-22 |
| 公開(公告)號: | CN105629571A | 公開(公告)日: | 2016-06-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | 高錦成;曹占鋒;呂志軍 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 汪源;陳源 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制備 方法 工作 | ||
1.一種顯示基板,其特征在于,包括襯底基板,所述襯底基板 上設置有波長轉(zhuǎn)換層,所述波長轉(zhuǎn)換層的出光側(cè)設置有濾光層;
所述波長轉(zhuǎn)換層用于將入射的第一光線轉(zhuǎn)換為出射的第二光 線;
所述濾光層用于對所述第二光線進行過濾,以形成對應的單色 光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述第一光 線的波長范圍為第一波段,所述第二光線的波長范圍為第二波段, 所述第一波段的下限值大于所述第二波段的上限值。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示基板,其特征在于,所述第一波 段為波長大于780nm,所述第二波段為波長大于等于380nm,而且 小于等于780nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板,其特征在于,所述波長轉(zhuǎn) 換層的構(gòu)成材料包括熒光納米材料、樹脂材料和塑化劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示基板,其特征在于,所述樹脂材 料的質(zhì)量比為80%-98%,所述熒光納米材料的質(zhì)量比為0.5%-10%, 所述塑化劑的質(zhì)量比為0.5%-5%。
6.一種顯示面板,其特征在于,包括權(quán)利要求1-5任一所述的 顯示基板。
7.一種顯示面板,其特征在于,包括相對設置的第一基板和第 二基板,所述第一基板上設置有波長轉(zhuǎn)換層,所述第二基板上設置 有濾光層;
所述波長轉(zhuǎn)換層用于將入射的第一光線轉(zhuǎn)換為出射的第二光 線;
所述濾光層用于對所述第二光線進行過濾,以形成對應的單色 光。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述第一基 板上設置有反射層,所述波長轉(zhuǎn)換層設置在所述反射層上,所述反 射層用于反射光線。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板,其特征在于,所述第一基 板上設置有薄膜晶體管,所述薄膜晶體管包括柵極、有源層、源極 以及漏極,所述反射層設置在所述薄膜晶體管上,所述反射層與所 述漏極連接,所述反射層的構(gòu)成材料包括導電材料。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示面板,其特征在于,所述導電 材料包括金屬材料。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述第一 光線的波長范圍為第一波段,所述第二光線的波長范圍為第二波段, 所述第一波段的下限值大于所述第二波段的上限值。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示面板,其特征在于,所述第一 波段為波長大于780nm,所述第二波段為波長大于等于380nm,而 且小于等于780nm。
13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述波長 轉(zhuǎn)換層的構(gòu)成材料包括熒光納米材料、樹脂材料和塑化劑。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示面板,其特征在于,所述樹脂 材料的質(zhì)量比為80%-98%,所述熒光納米材料的質(zhì)量比為0.5%-10%, 所述塑化劑的質(zhì)量比為0.5%-5%。
15.一種顯示基板的制備方法,其特征在于,包括:
在襯底基板上形成波長轉(zhuǎn)換層,所述波長轉(zhuǎn)換層用于將入射的 第一光線轉(zhuǎn)換為出射的第二光線;
在所述波長轉(zhuǎn)換層的出光側(cè)形成濾光層,所述濾光層用于對所 述第二光線進行過濾,以形成對應的單色光。
16.一種顯示面板的制備方法,其特征在于,包括:
在第一基板上形成波長轉(zhuǎn)換層,所述波長轉(zhuǎn)換層用于將入射的 第一光線轉(zhuǎn)換為出射的第二光線;
在第二基板上形成濾光層,所述濾光層用于對所述第二光線進 行過濾,以形成對應的單色光;
將所述第一基板和所述第二基板相對設置。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





