[發明專利]一種噴淋的控制方法、其裝置及噴淋系統

有效

• 申請號: 201610045320.8
• 申請日: 2016-01-22
• 公開（公告）號: CN105549345B
• 公開（公告）日: 2019-11-26
• 發明（設計）人: 馮彥貴;熊正平;沈祥凱;田利軍
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30
• 代理公司: 11291 北京同達信恒知識產權代理有限公司
• 代理人: 黃志華<國際申請>=<國際公布>=<進入

1.一種噴淋的控制方法，其特征在于，包括：

在被噴淋基板與噴頭之間發生相對運動時，實時確定所述被噴淋基板相對于所述噴頭的相對位移；

根據設定的噴淋流量與所述被噴淋基板相對位移之間的對應關系，以及所述被噴淋基板的相對位移，確定當前所需的噴淋流量；

根據確定出的當前所需的噴淋流量，調整所述噴頭當前噴淋的液體流量，使所述被噴淋基板上單位面積內的液體量為定值；

所述噴頭噴淋的液體為顯影液；

所述噴淋流量與所述被噴淋基板相對位移之間的對應關系包括：與不同的顯影速度一一對應的顯影流量與被顯影基板相對位移曲線；

其中，根據設定的噴淋流量與所述被噴淋基板相對位移之間的對應關系，以及所述被噴淋基板的相對位移，確定當前所需的噴淋流量，具體包括：

確定當前設定的顯影速度；

根據所述當前設定的顯影速度，確定對應的顯影流量與被顯影基板相對位移曲線；

根據所述被噴淋基板的相對位移，按照顯影流量與被顯影基板相對位移曲線，確定當前所需的噴淋流量。

2.如權利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述被噴淋基板與所述噴頭之間發生相對運動，具體包括：

所述噴頭處于靜止狀態，所述被噴淋基板相對于所述噴頭發生移動；或，

所述被噴淋基板處于靜止狀態，所述噴頭相對于所述被噴淋基板發生移動。

3.如權利要求1所述的控制方法，其特征在于，還包括：

間隔設定時間，獲取已顯影基板中各位置處的線寬值；

針對每個位置處，在確定所述線寬值與基準值之差的絕對值大于預設值時，校正設定的所述顯影流量與所述被顯影基板相對位移曲線。

4.如權利要求3所述的控制方法，其特征在于，所述校正設定的所述顯影流量與所述被顯影基板相對位移曲線，具體包括：

當確定所述線寬值大于所述基準值與所述預設值之和時，根據所述線寬值與基準值之差的絕對值，上調與所述線寬值所處位置對應的所述被顯影基板相對位移對應的所述顯影流量；

當確定所述線寬值與所述預設值之和小于所述基準值時，根據所述線寬值與基準值之差的絕對值，下調與所述線寬值所處位置對應的所述被顯影基板相對位移對應的所述顯影流量。

5.如權利要求1-4任一項所述的控制方法，其特征在于，所述噴淋流量與所述被噴淋基板相對位移之間的對應關系為：

在所述被噴淋基板與所述噴頭之間發生勻速相對運動時，所述噴淋基板相對于所述噴頭位移越遠所述噴淋流量越小。

6.一種噴淋的控制裝置，其特征在于，包括：位移傳感器，用于在被噴淋基板與噴頭之間發生相對運動時，實時確定所述被噴淋基板相對于所述噴頭的相對位移；

處理器，用于根據設定的噴淋流量與所述被噴淋基板相對位移之間的對應關系，以及所述被噴淋基板的相對位移，確定當前所需的噴淋流量，其中，所述噴頭噴淋的液體為顯影液，所述噴淋流量與所述被噴淋基板相對位移之間的對應關系包括：與不同的顯影速度一一對應的顯影流量與被顯影基板相對位移曲線，確定當前設定的顯影速度，根據所述當前設定的顯影速度；且，根據設定的噴淋流量與所述被噴淋基板相對位移之間的對應關系，以及所述被噴淋基板的相對位移，確定當前所需的噴淋流量，具體包括：確定對應的顯影流量與被顯影基板相對位移曲線，并根據所述被噴淋基板的相對位移，按照顯影流量與被顯影基板相對位移曲線，確定當前所需的噴淋流量；

流量控制器，用于根據確定出的當前所需的噴淋流量，調整所述噴頭當前噴淋的液體流量，使所述被噴淋基板上單位面積內的液體量為定值。

7.一種噴淋系統，其特征在于，包括：至少一個具有噴頭的噴淋構件，以及如權利要求6所述的噴淋的控制裝置。