[發(fā)明專利]排級(jí)式雙介質(zhì)阻擋等離子放電盤

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610044894.3
• 申請(qǐng)日: 2016-01-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN105536453B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-11-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張建平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山東派力迪等離子技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B01D53/32
• 分類號(hào): B01D53/32;H05H1/24
• 代理公司: 青島發(fā)思特專利商標(biāo)代理有限公司 37212
• 代理人: 馬俊榮

1.一種排級(jí)式雙介質(zhì)阻擋等離子放電盤，包括盤架(2)和等離子管，其特征在于：盤架(2)兩端設(shè)有金屬架板(1)，金屬架板(1)上設(shè)有若干排通孔，兩個(gè)金屬架板(1)之間的對(duì)應(yīng)通孔處裝有等離子管；

等離子管包括電極放電管(4)和接地電極放電管(3)，電極放電管(4)中設(shè)有高壓電極(15)，接地電極放電管(3)中設(shè)有接地電極(17)，相鄰兩排等離子管中，一排為等間距排列的電極放電管(4)，另一排為等間距排列的接地電極放電管(3)，相鄰兩排等離子管插空排列；

電極放電管(4)引出正極引線(7)，接地電極放電管(3)引出負(fù)極引線(8)，正、負(fù)極引線(7、8)位于金屬架板(1)的同一端；位于正、負(fù)極引線(7、8)一端的金屬架板(1)上設(shè)有金屬外罩(5)，金屬外罩(5)內(nèi)填充滅弧材料(6)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排級(jí)式雙介質(zhì)阻擋等離子放電盤，其特征在于：所述的等離子管由無(wú)機(jī)材料燒結(jié)制成，等離子管內(nèi)裝有導(dǎo)電體(10)，等離子管一端為開(kāi)口端(14)，另一端為盲端(9)，正、負(fù)極引線(7、8)從等離子管的開(kāi)口端(14)引出，開(kāi)口端(14)內(nèi)設(shè)有絕緣內(nèi)襯短管(11)，正、負(fù)極引線(7、8)與內(nèi)襯短管(11)之間、內(nèi)襯短管(11)與等離子管之間通過(guò)密封膠(12)粘接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的排級(jí)式雙介質(zhì)阻擋等離子放電盤，其特征在于：所述的等離子管通過(guò)粘合密封的方式安裝在金屬架板(1)上的通孔處。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的排級(jí)式雙介質(zhì)阻擋等離子放電盤，其特征在于：所述的兩個(gè)金屬架板(1)之間設(shè)有二排或三排等離子管。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的排級(jí)式雙介質(zhì)阻擋等離子放電盤，其特征在于：所述的滅弧材料(6)為液態(tài)滅弧介質(zhì)或固態(tài)滅弧介質(zhì)或液態(tài)、固態(tài)混合滅弧介質(zhì)。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的排級(jí)式雙介質(zhì)阻擋等離子放電盤，其特征在于：所述的內(nèi)襯短管(11)為無(wú)機(jī)材料燒結(jié)制成。

7.根據(jù)權(quán)利要求2或6所述的排級(jí)式雙介質(zhì)阻擋等離子放電盤，其特征在于：所述的無(wú)機(jī)材料為石英玻璃、陶瓷或微晶玻璃。

8.根據(jù)權(quán)利要求4或6所述的排級(jí)式雙介質(zhì)阻擋等離子放電盤，其特征在于：所述的金屬外罩(5)上設(shè)置有滅弧材料添加口，金屬外罩(5)通過(guò)螺絲固定在金屬架板(1)上。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的排級(jí)式雙介質(zhì)阻擋等離子放電盤，其特征在于：所述的導(dǎo)電體(10)為金屬粉末或?qū)щ娭?/p>

10.根據(jù)權(quán)利要求2或6所述的排級(jí)式雙介質(zhì)阻擋等離子放電盤，其特征在于：所述的內(nèi)襯短管(11)的外端面、盲端(9)的外端面均超出金屬架板(1)5-10mm。