[發明專利]一種降低光刻物鏡壓力靈敏度的方法及其應用有效
| 申請號： | 201610044309.X | 申請日： | 2016-01-22 |
| 公開（公告）號： | CN106997150B | 公開（公告）日： | 2018-10-16 |
| 發明（設計）人： | 安福平;郭銀章 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備（集團）股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 201203 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 降低 光刻 物鏡 壓力 靈敏度 方法 及其 應用 | ||
1.一種降低光刻物鏡壓力靈敏度的方法，其特征在于，包括以下步驟：
S1：對光刻物鏡內的各個透鏡間隔針對空氣進行焦面或倍率的壓力靈敏度測量，并對所有測量數據進行求和得到總和A；
S2：根據得到的總和A的正負情況，找出與總和A正負一致的N個壓力靈敏度最大的透鏡間隔，N為≥1的整數，其中，當所有透鏡間隔中最大的壓力靈敏度值大于總和A時，N＝1；否則，N≥2；
S3：對S2中選出的N個透鏡間隔針對氦氣進行焦面或倍率的壓力靈敏度測量；
S4：根據S2中選出的N個透鏡間隔在S1和S3中的壓力靈敏度測量值，計算氦氣對應的壓力靈敏度減小率；
S5：計算該N個透鏡間隔內氦氣的比例，使各個透鏡間隔的壓力靈敏度測量數據之和接近于0。
2.根據權利要求1中所述的降低光刻物鏡壓力靈敏度的方法，其特征在于，所述S1中，還包括對各個透鏡間隔進行編號。
3.根據權利要求1中所述的降低光刻物鏡壓力靈敏度的方法，其特征在于，所述S4中，氦氣對應的壓力靈敏度減小率ai為：
其中，Hei、Airi分別為第i個透鏡間隔內對應氦氣和空氣的壓力靈敏度。
4.根據權利要求1中所述的降低光刻物鏡壓力靈敏度的方法，其特征在于，所述S5中，根據S4中得到的壓力靈敏度減小率和S1中得到的總和A計算N個透鏡間隔內氦氣的比例。
5.根據權利要求4中所述的降低光刻物鏡壓力靈敏度的方法，其特征在于，所述N個透鏡間隔內氦氣的比例bi、壓力靈敏度減小率ai以及總和A之間滿足：
其中，Airi為第i個透鏡間隔內對應空氣的壓力靈敏度。
6.一種光刻物鏡，其特征在于，應用權利要求1-5中任一項所述的降低光刻物鏡壓力靈敏度的方法。
7.一種光刻裝置，其特征在于，具備權利要求6所述的光刻物鏡。
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