[發(fā)明專利]一種負(fù)離子內(nèi)墻磚

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201610043174.5
• 申請(qǐng)日: 2016-01-23
• 公開（公告）號(hào): CN105541293B
• 公開（公告）日: 2018-08-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 侯曉濤;馬勝昔;劉智永
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山東聯(lián)眾陶瓷有限公司
• 主分類號(hào): C04B33/13
• 分類號(hào): C04B33/13;C04B33/34;C04B41/89;C03C8/20;C03C8/04;C03C8/16;C03C8/02
• 代理公司: 淄博佳和專利代理事務(wù)所 37223
• 代理人: 張?chǎng)?/td>

一種負(fù)離子內(nèi)墻磚，屬于內(nèi)墻磚技術(shù)領(lǐng)域。一種負(fù)離子內(nèi)墻磚，其特征在于：包括坯體、化妝土層、負(fù)離子面釉層，所述的化妝土層的釉漿重量份組成為：化妝土成釉100份、纖維素0.8~1.1份、水分保持劑0.33~0.35份、水33~37份，所述負(fù)離子面釉層的釉漿重量份組成為：面釉熔塊95份、高嶺土5~5.5份、纖維素0.18~0.22份、三聚磷酸鈉0.28~0.32份、負(fù)氧離子材料4~7份。本發(fā)明通過化妝涂層的成分調(diào)節(jié)，阻斷負(fù)離子進(jìn)入坯體的通道，成功的在密度小、氣孔率高的墻面裝上實(shí)現(xiàn)了負(fù)離子的高效釋放。

技術(shù)領(lǐng)域

一種負(fù)離子內(nèi)墻磚，屬于內(nèi)墻磚技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)

內(nèi)墻磚是一種重要的建筑裝飾裝修材料，由于多是用于豎直貼附環(huán)境。所以要求內(nèi)墻磚具有更小的比重和膨脹比。現(xiàn)有技術(shù)將鋰電氣石、鎂電氣石材料與納米TiO₂用作負(fù)離子發(fā)生劑，制成具有負(fù)離子釋放功能的納米復(fù)合負(fù)離子粉體，引入到陶瓷磚中，并與陶瓷基體良好結(jié)合起來，從而獲得具有釋放負(fù)離子能力的陶瓷釉面磚。但是在負(fù)離子材料應(yīng)用于內(nèi)墻磚時(shí)存在以下問題。內(nèi)墻磚由于比重小，坯體的氣孔率更高，在外部釉層或全拋層氣孔率相對(duì)更小的情況下，有相當(dāng)一部分負(fù)離子會(huì)進(jìn)入坯體而浪費(fèi)，降低負(fù)離子的有效釋放量，縮短負(fù)離子材料的有效激發(fā)時(shí)間。

發(fā)明內(nèi)容

克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種負(fù)離子產(chǎn)生速率快、利用率高的負(fù)離子內(nèi)墻磚。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：該負(fù)離子內(nèi)墻磚，其特征在于：包括坯體、化妝土層、負(fù)離子面釉層，所述的化妝土層的釉漿重量份組成為：化妝土成釉100份、纖維素0.8~1.1份、水分保持劑 0.33~0.35份、水33~37份，所述負(fù)離子面釉層的釉漿重量份組成為：面釉熔塊95份、高嶺土5~5.5份、纖維素0.18~0.22份、三聚磷酸鈉 0.28~0.32份、負(fù)氧離子材料4~7份。

本發(fā)明通過改變化妝土層和負(fù)離子面釉層的組成，調(diào)節(jié)兩個(gè)秞層的氣孔率、氣孔大小和吸水能力，通過氣孔率、氣孔大小配合使得負(fù)離子能夠充分釋放。最主要的，本發(fā)明在傳統(tǒng)常用的化妝土成油和面釉熔塊的基礎(chǔ)上添加調(diào)節(jié)成份，調(diào)控秞層達(dá)到特定的吸潮能力，能夠一定的吸附所在空間的水分供負(fù)氧離子材料激發(fā)為負(fù)氧離子，提高負(fù)氧離子材料的有效利用率，同時(shí)吸濕能力配合氣孔率、氣孔大小達(dá)到一種既有充足水分被激發(fā)為負(fù)離子，又不會(huì)在釉面形成細(xì)密水珠。大大提高負(fù)氧離子單位時(shí)間的釋放速率的同時(shí)，保持釉面清爽。

本發(fā)明選擇使用面釉熔塊與調(diào)節(jié)成份配合，而不是直接將調(diào)節(jié)成份加入的面釉的原料組成中，主要是為了調(diào)節(jié)在燒結(jié)的時(shí)候由于燒失量產(chǎn)生的釉料膨脹系數(shù)和針孔，以達(dá)到上述氣孔率、氣孔大小。同時(shí)防止原料溶于水或帶有堿性，保證釉漿性能。并盡量把二氧化碳等提前排出從而不影響釉面平整度。提前制成熔塊后還容易控制研磨時(shí)間和細(xì)度，更易于控制釉漿性能。

優(yōu)選的，所述的化妝土層的釉漿重量份組成為：化妝土成釉100份、纖維素1.0份、水分保持劑 0.35份、水35份，所述負(fù)離子面釉層的釉漿重量份組成為：面釉熔塊95份、高嶺土5份、纖維素0.2份、三聚磷酸鈉 0.3份、負(fù)氧離子材料5份，水分保持劑為三聚磷酸鈉。本優(yōu)選配方形成釉面的微型結(jié)構(gòu)達(dá)到最佳的配合效果，尤其適合中國(guó)北方干燥地區(qū)，空氣中的水分不足的環(huán)境。

優(yōu)選的，所述的化妝土成釉的原料的成份質(zhì)量百分比為SiO₂ 55.4%~56%，Al₂O₃ 4%~5%，CaO 23%~24%，MgO 2%~3%，LOI （燒失量）5%~6%，TiO₂ 8.0%~8.6%。化妝土層的基本作用是將面釉層和坯體層隔離，減少水分滲透，同時(shí)形成底色并保持釉面憑證。本化妝土成釉的組成能夠與本發(fā)明化妝土層的調(diào)節(jié)成份達(dá)到最佳的配合效果，使本發(fā)明水分吸附和面釉層的負(fù)離子激發(fā)達(dá)到最佳配合。同時(shí)本化妝土成釉的組成能夠更好的阻斷負(fù)氧離子移動(dòng)到坯體中形成的浪費(fèi)。