[發(fā)明專利]密封環(huán)及具有密封環(huán)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610041242.4 | 申請日: | 2016-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN105470242A | 公開(公告)日: | 2016-04-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹云 | 申請(專利權(quán))人: | 上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/60 | 分類號: | H01L23/60;H01L21/761 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 吳敏 |
| 地址: | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 密封 具有 半導(dǎo)體 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種具有密封環(huán)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:
密封環(huán),所述密封環(huán)包括:襯底,所述襯底包括環(huán)形的第一重?fù)诫s區(qū)、第二重?fù)诫s區(qū)和第三重?fù)诫s區(qū),所述第二重?fù)诫s區(qū)和第三重?fù)诫s區(qū)分別位于所述第一重?fù)诫s區(qū)兩側(cè),且與所述第一重?fù)诫s區(qū)毗鄰,其中,第一重?fù)诫s區(qū)為第一類型摻雜,第二重?fù)诫s區(qū)和第三重?fù)诫s區(qū)為第二類型摻雜;分別位于所述第一重?fù)诫s區(qū)、第二重?fù)诫s區(qū)和第三重?fù)诫s區(qū)上的獨(dú)立的三個(gè)金屬互連結(jié)構(gòu),所述金屬互連結(jié)構(gòu)為多層堆疊的環(huán)形結(jié)構(gòu),包括接觸通孔和金屬互連線,各層金屬互連線之間通過接觸通孔電連接;所述第一重?fù)诫s區(qū)、第二重?fù)诫s區(qū)和第三重?fù)诫s區(qū)分別通過所述接觸通孔與金屬互連線連接,第一重?fù)诫s區(qū)、第二重?fù)诫s區(qū)和第三重?fù)诫s區(qū)構(gòu)成的兩個(gè)PN結(jié)均處于反偏;
被所述密封環(huán)包圍的芯片;
位于密封環(huán)外側(cè)的劃片槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有密封環(huán)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一類型重?fù)诫s區(qū)為P型摻雜,第二重?fù)诫s區(qū)和第三重?fù)诫s區(qū)為N型摻雜;或者所述第一類型重?fù)诫s區(qū)為N型摻雜,第二重?fù)诫s區(qū)和第三重?fù)诫s區(qū)為P型摻雜。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的具有密封環(huán)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一重?fù)诫s區(qū)的摻雜濃度為1E14atom/mm
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有密封環(huán)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第二重?fù)诫s區(qū)、第一重?fù)诫s區(qū)和第三重?fù)诫s區(qū)的寬度比例為30:888:30~459:30:459。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有密封環(huán)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,相鄰金屬互連結(jié)構(gòu)中,位于同一層內(nèi)的金屬互連線之間的間距為1μm~2μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有密封環(huán)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一重?fù)诫s區(qū)、第二重?fù)诫s區(qū)和第三重?fù)诫s區(qū)表面形成有金屬硅物層。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的具有密封環(huán)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,若第二重?fù)诫s區(qū)和第三重?fù)诫s區(qū)為N型摻雜,所述第二重?fù)诫s區(qū)和第三重?fù)诫s區(qū)表面的金屬互連結(jié)構(gòu)與電源電壓電連接;若所述第一類型重?fù)诫s區(qū)為N型摻雜,所述第一重?fù)诫s區(qū)表面的金屬互連結(jié)構(gòu)與電源電壓電連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有密封環(huán)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述金屬互連結(jié)構(gòu)通過頂層的金屬互連線與電源電壓電連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有密封環(huán)的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),其特征在于,所述密封環(huán)與芯片之間的距離為3μm~5μm。
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