[發明專利]一種在室溫條件下制備金屬卟啉-石墨烯納米復合材料的方法在審
| 申請號： | 201610041189.8 | 申請日： | 2016-01-21 |
| 公開（公告）號： | CN105688995A | 公開（公告）日： | 2016-06-22 |
| 發明（設計）人： | 曾榮今;陳國良;熊春剛;李耿賢;成奮民;陳述 | 申請（專利權）人： | 湖南科技大學 |
| 主分類號： | B01J31/22 | 分類號： | B01J31/22;B01J21/18;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 湘潭市匯智專利事務所(普通合伙) 43108 | 代理人： | 冷玉萍 |
| 地址： | 411201 *** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 室溫 條件下 制備 金屬 卟啉 石墨 納米 復合材料 方法 | ||
1.一種室溫條件下制備金屬卟啉-石墨烯納米復合材料的方法，包括如下步驟：
（1）配置一定濃度的陽離子卟啉水溶液，向其中逐滴加入梯度還原的氧化石墨烯分散液，通過紫外-可見吸收光譜監測，恰好達到穩定紅移時，得到卟啉-石墨烯復合物；所述的梯度還原具體為：以40 mL，0.15 mg/mL氧化石墨烯分散液為基準，向其中滴加0-10 μL的80%水合肼溶液，得到還原后的氧化石墨烯分散液；
（2）向上述卟啉-石墨烯復合物分散液中滴加一定濃度的金屬離子水溶液，使得復合物中的卟啉與金屬離子在常溫或室溫下作用，通過紫外-可見吸收光譜監測，當達到穩定紅移時，即得到金屬卟啉-石墨烯納米復合材料，其結構通式如下：
其中取代基R為CH3, CH2CH3,(CH2)2CH3, (CH2)3CH3, (CH2)4CH3, (CH2)5CH3, (CH2)3OH,CH2COOCH2CH3, CH2C6H5, CH2C6H4CH3和CH2C6H4NO2中的一種；
其中M為Zn2+, Cd2+, Pb2+或Hg2+。
2.如權利要求1所述的室溫條件下制備金屬卟啉-石墨烯納米復合材料的方法，所述的陽離子卟啉，通過Alder-longo法合成四吡啶卟啉后再利用N的烷基化反應合成或直接購買；所述陽離子卟啉溶液的濃度為1~100 μmol/L。
3.如權利要求1所述的室溫條件下制備金屬卟啉-石墨烯納米復合材料的方法，步驟（2）中，卟啉-石墨烯復合物與金屬離子的物質的量濃度之比為1:1~5。
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