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[發明專利]一種DPC工藝用鏡面氮化鋁陶瓷基板的高活性預處理方法有效

專利信息
申請號: 201610040986.4 申請日: 2016-01-21
公開(公告)號: CN105679684B 公開(公告)日: 2018-10-09
發明(設計)人: 余正剛;鄒冠生;單春光;余會;馮華忠;余正偉 申請(專利權)人: 中山市瑞寶電子科技有限公司
主分類號: H01L21/48 分類號: H01L21/48;H01L21/02
代理公司: 中山市銘洋專利商標事務所(普通合伙) 44286 代理人: 鄒常友
地址: 528400 廣東省中山市南朗鎮大車工*** 國省代碼: 廣東;44
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摘要:
搜索關鍵詞: 一種 dpc 工藝 用鏡面 氮化 陶瓷 活性 預處理 方法
【權利要求書】:

1.一種DPC工藝用鏡面氮化鋁陶瓷基板的高活性預處理方法,其特征在于:它包括以下步驟:

步驟一;活化溶液的配制;活化溶液由催化劑、緩釋劑、活性鹽和添加劑混合而成,其中催化劑包括雙氧水、過硫酸鈉的任一種或二者混合,催化劑包括雙氧水、過硫酸鈉的任一種或二者混合,緩釋劑由乙二醇、甘油的任一種或二者混合,活性鹽由硝酸鈉、氟化銨和硝酸錳混合而成,添加劑為草酸、EDTA的任一種或二者混合,將選取的試劑按比例溶于去離子水中,30℃條件下攪拌,攪拌速度為200~2000轉/分鐘,30min~180min后過濾制得活化溶液;

步驟二;鏡面氮化鋁基板除油清洗;將鏡面氮化鋁基板浸入除油溶液中,用超聲清洗工藝清洗,去除鏡面氮化鋁基板表面的污垢,用去離子水沖凈其表面;

步驟三;鏡面氮化鋁基板除蠟清洗;將鏡面氮化鋁基板置于除蠟水中,超聲工藝清洗,除去鏡面氮化鋁基板表面因拋光殘留的蠟狀拋光膏,用去離子水沖凈其表面;

步驟四;鏡面氮化鋁基板表面活化反應;將除油處理過的鏡面氮化鋁基板浸泡于活化溶液中,并輔以超聲工藝,在催化劑的作用下,鏡面氮化鋁表面的Al元素和N元素發生化學反應,形成AlNM化學鍵(M=H、Na、NH4、Mn)和OAlF化學鍵,使其表面形成高浸潤、高活性的膜層;

步驟五;鏡面氮化鋁基板的熱處理;將已經形成高活性層的鏡面氮化鋁基板的表面用去離子水沖凈,冷風吹干氮化鋁基板表面,置于烘箱中烘烤,自然冷卻后得到DPC工藝用的高活性氮化鋁陶瓷基板。

2.根據權利要求1所述DPC工藝用鏡面氮化鋁陶瓷基板的高活性預處理方法,其特征在于:所述活化溶液中雙氧水的摩爾濃度為0.005~0.01mol/L,過硫酸鈉的摩爾濃度為0~0.005mol/L,乙二醇的摩爾濃度為0.0001~0.005mol/L,甘油的摩爾濃度為0~0.001mol/L,硝酸鈉的摩爾濃度為0~0.01mol/L,氟化銨的摩爾濃度為0.005~0.05mol/L,硝酸錳的摩爾濃度為0~0.01mol/L,草酸和EDTA的濃度均為0.005~0.01mol/L。

3.根據權利要求1所述的DPC工藝用鏡面氮化鋁陶瓷基板的高活性預處理方法,其特征在于:所述步驟二中鏡面氮化鋁基板除油清洗用的除油溶液為酸性除油液,溶度為50g/L~100g/L,超聲波頻率為40~80KHz,處理時間為15min~300min,超聲功率40%~90%,水溫30~40℃。

4.根據權利要求1所述的DPC工藝用鏡面氮化鋁陶瓷基板的高活性預處理方法,其特征在于:所述步驟三中鏡面氮化鋁基板除蠟清洗用的除油溶液為酸性除蠟液,溶度為100g/L~200g/L,超聲波頻率為40~80KHz,處理時間為15min~300min,超聲功率40%~90%,水溫50~75℃。

5.根據權利要求1所述DPC工藝用鏡面氮化鋁陶瓷基板的高活性預處理方法,其特征在于:所述步驟四超聲波頻率為40~80KHz,處理時間為15min~300min,超聲功率40%~90%,水溫30~40℃。

6.根據權利要求1所述DPC工藝用鏡面氮化鋁陶瓷基板的高活性預處理方法,其特征在于:所述步驟五中氮化鋁基板熱氧化處理的處理溫度100℃~150℃,保溫時間為30min~180min。

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