[發明專利]一種金剛石射線靶、制備方法及應用在審
| 申請號: | 201610040882.3 | 申請日: | 2016-01-21 |
| 公開(公告)號: | CN105702544A | 公開(公告)日: | 2016-06-22 |
| 發明(設計)人: | 鄭磊;劉華榮;王俊聽;羅婷婷;李藝晶 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第三十八研究所 |
| 主分類號: | H01J35/18 | 分類號: | H01J35/18;H01J35/24;H01J35/08;H01J35/12;H01J9/02 |
| 代理公司: | 合肥市浩智運專利代理事務所(普通合伙) 34124 | 代理人: | 王林 |
| 地址: | 230000 安徽省合*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 金剛石 射線 制備 方法 應用 | ||
1.一種金剛石射線靶,其特征在于,包括金剛石片、窗口封接環和薄膜陽極,所述金剛 石片通過焊料焊接在窗口封接環上,所述薄膜陽極沉積在金剛石片朝向電子束的一面。
2.根據權利要求1所述的一種金剛石射線靶,其特征在于,所述窗口封接環上開設連接 孔,所述連接孔的兩端為臺階面,所述金剛石片的端部放置在所述臺階面上并通過焊料焊接 在所述臺階面上。
3.根據權利要求1所述的一種金剛石射線靶,其特征在于,所述射線靶還包括散熱層, 所述散熱層鍍膜于所述薄膜陽極朝向電子束的一面。
4.根據權利要求1所述的一種金剛石射線靶,其特征在于,所述薄膜陽極的厚度為1~ 10μm,所述金剛石的厚度為0.05~0.3mm。
5.根據權利要求1所述的一種金剛石射線靶,其特征在于,所述金剛石片為化學氣相沉 積法制備得到,所述薄膜陽極朝向電子束的一面為所述金剛石片的成核面。
6.一種如權利要求1所述的金剛石射線靶的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)在窗口封接環上開設連接孔,連接孔的兩端為臺階面,將焊料放入臺階面,再將金 剛石片放入臺階面上,焊接過程中確保金剛石壓緊焊接在窗口封接環上;
(2)焊接后,將金剛石片以外的部分擋住,在金剛石朝向電子束的一面沉積薄膜陽極。
7.根據權利要求6所述的一種金剛石射線靶的制備方法,其特征在于,所述制備方法還 包括步驟(3),在薄膜陽極上朝向電子束的一面上鍍膜散熱層。
8.根據權利要求6所述的一種金剛石射線靶的制備方法,其特征在于,所述薄膜陽極選 自鎢、鉬、無氧銅或金中的任一種材料制備而成。
9.根據權利要求6所述的一種金剛石射線靶的制備方法,其特征在于,所述焊接方式為 真空釬焊或氬氣保護釬焊,焊料選自銀、銅、鈦、金的一種或多種。
10.一種金剛石射線靶在透射式微焦點X射線管中的應用。
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