[發明專利]冷凍循環裝置

有效

• 申請號: 201610039171.4
• 申請日: 2013-09-11
• 公開（公告）號: CN105674430B
• 公開（公告）日: 2019-05-03
• 發明（設計）人: 知崎正純;鈴木康巨;牧野浩招;前山英明;石井稔
• 申請（專利權）人: 三菱電機株式會社
• 主分類號: F24F1/06
• 分類號: F24F1/06;F24F1/24;F24F1/38;F24F1/48;F24F1/56
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 黃永杰

本發明的冷凍循環裝置具有框體(40)、分隔板(50)、冷凍循環回路和送風機(35)，框體(40)構成室外機(30)的外輪廓，在內部形成有機械室(M)和送風室(F)，且形成有用于將外氣導入機械室(M)的導入孔(45)；分隔板(50)分隔框體(40)的內部，以劃分成機械室(M)和送風室(F)；冷凍循環回路的至少一部分被配置在機械室(M)中，供可燃性的制冷劑回流；送風機(35)被配置在送風室(F)中。在分隔板(50)的下部形成有從機械室(M)通到送風室(F)的通風孔(51)。從導入孔(45)被導入到機械室(M)的外氣穿過通風孔(51)，流入送風室(F)，由送風機(35)從形成于送風室(F)的吹出口向框體(40)的外部送出。

本申請是申請日為2013年9月11日、申請號為201310410653.2的發明專利申請“冷凍循環裝置”的分案申請。

技術領域

本發明涉及一種使用可燃性制冷劑的冷凍循環裝置。

背景技術

現在，在冷凍循環裝置中，作為制冷劑使用R410A那樣的HFC(Hydro FluoroCarbon；氫氟碳化物)制冷劑。R410A與以往的R22那樣的HCFC(Hydro Chloro FluoroCarbon；氫氯氟碳化物)制冷劑不同，雖然臭氧層破壞系數ODP(Ozone DepletionPotential)為零，不會破壞臭氧層，但是，具有全球變暖系數GWP(Global WarmingPotential)高這樣的性質。因此，作為防止全球變暖的一環，從R410A那樣的GWP高的HFC制冷劑向GWP低的HFC制冷劑變更的研究正在進展。

作為低GWP的HFC制冷劑的候補，有R32(CH₂F₂；二氟甲烷)。另外，作為具有同樣的特征的候補制冷劑，有在組成中具有碳的三鍵的鹵代烴，例如HFO-1234yf(CF₃CF＝CH₂；四氟丙烷)、HFO-1234ze(CF₃-CH＝CHF)。它們與R32同樣，是HFC制冷劑的一種，但是，由于具有碳的雙鍵的不飽和烴被稱為烯烴，所以，為了與像R32那樣在組成中不具有碳的雙鍵的HFC制冷劑區別，大多使用烯烴的O表示為HFO。

這樣的低GWP的HFC制冷劑(包括HFO制冷劑)雖然不是R290(C₃H₈；丙烷)等HC制冷劑程度的強燃性，但與不燃性的R410A不同，具有微燃水準的可燃性(以后將具有可燃性的制冷劑稱為可燃性制冷劑)。因此，需要注意制冷劑泄漏。

針對該問題，例如，在日本國特開平11－94291號公報中，在可燃性制冷劑泄漏，可燃性制冷劑滯留在室外單元的機械室內的電氣零件箱中的情況下，在使被收容在機械室中的壓縮機工作前，使被收容在送風室中的送風機工作。據此，將滯留在機械室的電氣零件箱內的可燃性制冷劑強制向外部排出。

在日本國特開平11－94291號公報記載的冷凍循環裝置中，電氣零件箱被配置在機械室內的上部。另外，用于將滯留在電氣零件箱的可燃性制冷劑排出的通風孔形成在分隔部的上部。由于可燃性制冷劑一般來說比空氣密度大、比重大，所以，泄漏了的可燃性制冷劑不僅滯留在電氣零件箱中，還滯留在機械室的底部。然而，在日本國特開平11－94291號公報記載的冷凍循環裝置中，要使滯留在電氣零件箱以外的場所，例如，機械室的底部的比空氣比重大的可燃性制冷劑在通風孔通過并向外部排出，在物理上困難。因此，需要進一步提高安全性。

發明內容

本發明是為了解決上述的問題而做出的發明，其目的是提供一種安全性高的冷凍循環裝置。