[發(fā)明專利]拋光方法和基片有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610036726.X | 申請日： | 2008-12-02 |
| 公開（公告）號： | CN105500154B | 公開（公告）日： | 2018-06-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 高橋圭瑞;關(guān)正也;草宏明;山口健二;中西正行 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會社荏原制作所 |
| 主分類號： | B24B21/00 | 分類號： | B24B21/00;B24B21/18;B24B21/20 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 蔡洪貴 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 拋光頭組件 收回機構(gòu) 帶供給 拋光裝置 拋光帶 配置 徑向方向設(shè)置 拋光基片 移動機構(gòu) 拋光 外周 在位 轉(zhuǎn)動 移動 | ||
1.一種利用包括研磨顆粒和樹脂的拋光帶來拋光基片的拋光方法，包括：
通過旋轉(zhuǎn)保持機構(gòu)轉(zhuǎn)動所述基片；
通過按壓所述拋光帶緊貼所述基片的外周來拋光所述基片的外周；
將包括純水或超純水的冷卻液冷卻到溫度最高為10℃；
在所述拋光過程中，將溫度最高為10℃的所述冷卻液供給到所述基片與所述拋光帶之間的接觸部分，以便冷卻所述拋光帶的所述樹脂；以及
在所述拋光之后，將具有尋常溫度的冷卻液供給到所述基片，以便清潔所述基片。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的拋光方法，其中，所述基片的外周的拋光采用多個拋光頭組件進行。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的拋光方法，其中，所述多個拋光頭組件包括四個拋光頭組件。
4.一種用于拋光基片的外周的拋光裝置，所述拋光裝置包括：
旋轉(zhuǎn)保持機構(gòu)，其被配置成水平地保持所述基片并轉(zhuǎn)動所述基片；
至少一個拋光頭組件，其被設(shè)置成面向由所述旋轉(zhuǎn)保持機構(gòu)保持的所述基片的外周；
至少一個帶供給與收回機構(gòu)，其被配置成將包括研磨顆粒和樹脂的拋光帶供給到所述至少一個拋光頭組件并從所述至少一個拋光頭組件收回拋光帶；
供給噴嘴，其被配置成將冷卻液供給到所述拋光帶與由所述旋轉(zhuǎn)保持機構(gòu)保持的基片之間的接觸部分；和
冷卻液供應(yīng)源，其被配置成將包括純水或超純水的溫度最高為10℃的低溫冷卻液和常溫冷卻液選擇性地供給到所述供給噴嘴，
其中，所述冷卻液供給源被配置成在所述基片的拋光期間供給所述低溫冷卻液并且在拋光所述基片之后且在清潔所述基片期間供給所述常溫冷卻液。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的拋光裝置，其特征在于：
所述至少一個拋光頭組件包括多個拋光頭組件；和
所述至少一個帶供給與收回機構(gòu)包括多個帶供給與收回機構(gòu)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會社荏原制作所，未經(jīng)株式會社荏原制作所許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201610036726.X/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
