[發(fā)明專利]鍍釕鉬片等離子體表面處理方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610035707.5 | 申請日： | 2016-01-20 |
| 公開（公告）號： | CN105543736B | 公開（公告）日： | 2017-08-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 俞葉 | 申請（專利權(quán)）人： | 宜興市科興合金材料有限公司 |
| 主分類號： | C22F1/02 | 分類號： | C22F1/02;C22F1/18;C23C14/58;C23C18/16;C25D5/48 |
| 代理公司： | 無錫大揚(yáng)專利事務(wù)所(普通合伙)32248 | 代理人： | 楊青 |
| 地址： | 214221 江蘇省無*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 鍍釕鉬片 等離子體 表面 處理 方法 | ||
1.鍍釕鉬片等離子體表面處理方法，其特征在于，包括以下步驟：
（1）將已鍍好釕膜的鉬片排列在等離子體放電裝置的真空腔體內(nèi)陰極板上，需處理的釕膜朝上，面對等離子放電的陽極，陰陽極板之間相距5-10cm；
（2）關(guān)閉真空腔體，開啟真空泵對真空腔體抽真空，使其真空度2×10-1Pa至5×10-2Pa；
（3）開啟充Ar氣閥門，通過真空流量計控制對真空腔體充入高強(qiáng)Ar氣，使真空腔體的真空度在1-10Pa范圍內(nèi)；
（4）開啟放電電源，使真空腔體陰陽極板之間的Ar氣電離，形成穩(wěn)定的輝光放電，放電功率對應(yīng)不同的基片設(shè)定不同，并開始記錄，功率100W到3000W，時間設(shè)定在5-30分鐘；
（5）當(dāng)放電設(shè)定時間達(dá)到后，關(guān)閉放電電源，關(guān)閉充Ar氣閥門，繼續(xù)用真空泵抽氣5-10分鐘；
（6）關(guān)停真空泵，開啟放氣閥，對真空腔體放氣，并打開真空腔體門，取出被處理好的鍍釕鉬片。
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1、專利原文基于中國國家知識產(chǎn)權(quán)局專利說明書；
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