[發明專利]等離子處理裝置以及等離子處理方法有效
| 申請號： | 201610032763.3 | 申請日： | 2016-01-19 |
| 公開（公告）號： | CN106024565B | 公開（公告）日： | 2019-11-19 |
| 發明（設計）人： | 置田尚吾;針貝篤史;松原功幸 | 申請（專利權）人： | 松下知識產權經營株式會社 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01L21/67;H01L21/683;H01L21/78 |
| 代理公司： | 11021 中科專利商標代理有限責任公司 | 代理人： | 柯瑞京<國際申請>=<國際公布>=<進入 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子 處理 裝置 以及 方法 | ||
【說明書】：
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