[發明專利]測量裝置

有效

• 申請號: 201610031178.1
• 申請日: 2016-01-18
• 公開（公告）號: CN105509615B
• 公開（公告）日: 2018-05-08
• 發明（設計）人: 康英男
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: G01B5/14
• 分類號: G01B5/14
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;陳源

本發明提供一種測量裝置，所述測量裝置包括橫向測量機構、縱向測量機構和定位件，所述定位件能夠從初始位置移動至待測量物體的位置，所述橫向測量機構用于測量所述定位件橫向移動的距離，所述縱向測量機構用于測量所述定位件縱向移動的距離。本發明的測量裝置對夾具的固定部與基臺之間的橫向距離、夾具的夾持部與基臺之間的縱向距離進行測量時更加方便。

技術領域

本發明涉及顯示基板的制作領域，具體涉及一種測量裝置。

背景技術

在顯示基板的制作過程中，先在襯底基板上形成膜層，然后對膜層進行構圖工藝以形成所需的圖形。膜層可以采用物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)的方法形成，在成膜時，需要使用夾具1(clamp)將基板固定到基臺2上。夾具1在使用一段時間以后由于磨損等原因需要進行更換，為了判斷夾具1的位置是否正確，需要測量夾具1的固定部11與基臺2之間的距離(如圖1中的A值)和夾具1的夾持部12與基臺2之間的距離(如圖1中的B值)，如果夾具1放置的位置不正確，可能襯底基板損壞，因此，夾具1的位置調整和夾具1與基臺2之間的距離測量十分重要。

為了測量圖1中的A值和B值，通常采用圖2中的楔形塞尺3進行測量，但是利用這種方式進行測量時，只能先測得A值和B值中的一個，然后再移動楔形塞尺3來測量另一個，使得測量過程較麻煩；并且，當楔形塞尺3的量程不夠時，如果直接將塞尺的量程增大，那么楔形塞尺3的橫向長度也會相應增加，使得楔形塞尺3占用較大的面積，不容易放置。

發明內容

本發明的目的在于提供一種測量裝置，以便于測量夾具和基臺之間的兩個方向的距離。

本發明提供一種測量裝置，所述測量裝置包括橫向測量機構、縱向測量機構和定位件，所述定位件能夠從初始位置移動至待測量物體的位置，所述橫向測量機構用于測量所述定位件橫向移動的距離，所述縱向測量機構用于測量所述定位件縱向移動的距離。

優選地，所述橫向測量機構和所述縱向測量機構之間的相對位置保持不變，所述定位件能夠相對于所述橫向測量機構和所述縱向測量機構移動。

優選地，所述測量裝置能夠測量用于固定基板的夾具和用于支撐所述基板的基臺之間的距離，所述夾具包括縱向延伸的固定部和與所述固定部相連并朝向所述基臺中部橫向延伸的夾持部，所述用于固定基板的夾具和用于支撐所述基板的基臺之間的距離包括所述固定部與所述基臺之間的橫向距離以及所述夾持部與所述基臺之間的縱向距離，所述定位件包括相連的縱向部和橫向部，所述縱向部的至少一部分能夠與所述夾具的固定部的朝向所述基臺的表面貼合，所述橫向部的至少一部分能夠與所述夾具的夾持部的朝向所述基臺的表面貼合。

優選地，所述橫向測量機構包括底座，所述底座上設置有橫向排列的多個刻度；所述縱向測量機構包括至少一個縱向標尺，所述縱向標尺上設置有縱向排列的多個刻度；所述縱向標尺和所述底座之間的相對位置保持不變，所述定位件移動至任意位置時，所述定位件上的預定位置在所述底座上的投影位于所述底座上刻度的范圍內，且所述定位件上的預定位置在所述縱向標尺上的投影位于所述縱向標尺上刻度的范圍內。

優選地，當所述定位件位于所述初始位置時，所述縱向部與所述底座的朝向所述待測量物體的側面相貼合，且所述橫向部與所述底座的頂面相貼合。

優選地，所述測量裝置還包括驅動機構，所述驅動機構與所述定位件相連，用于帶動所述定位件相對于所述橫向測量機構進行縱向移動，并帶動所述定位件相對于所述縱向測量機構進行橫向移動。

優選地，所述驅動機構包括與各個所述縱向標尺分別對應的驅動軸和與各個所述驅動軸分別對應相連的連接組件，所述縱向標尺上設置有第一通孔，所述驅動軸的一端穿過相應的縱向標尺上的第一通孔，所述連接組件與所述定位件相連，所述驅動軸用于帶動所述連接組件沿所述底座上刻度的排列方向移動。