[發明專利]一種粉體或顆粒等離子體處理裝置

有效

• 申請號: 201610031128.3
• 申請日: 2012-11-30
• 公開（公告）號: CN105719931B
• 公開（公告）日: 2017-09-08
• 發明（設計）人: 馮沛;劉媛;王勇
• 申請（專利權）人: 神華集團有限責任公司;北京低碳清潔能源研究所
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;B01J37/34
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所11247
• 代理人: 吳鵬,馬江立

1.一種粉體或顆粒等離子體處理裝置，包括：

具有腔室的可旋轉筒體或球體，所述腔室的空間為圓柱體或球體，在所述筒體或球體上具有所述粉體或顆粒的入口和工作氣體入口，以便將所述粉體或顆粒和工作氣體送入上述腔室中；

用于驅動所述筒體或球體旋轉的驅動裝置；

一個位于所述腔室中的固定的正電極，所述正電極的橫截面為扇形或所述正電極為扇形，并且扇形圓心線位于腔室圓柱體空間軸線上或扇形圓心位于腔室球體空間中心上；

金屬負電極；

與所述正電極和負電極實現電連接使所述腔室中產生等離子體氣體的等離子體電源；

其中，所述腔室壁體的至少一部分構成所述金屬負電極，在所述正電極和負電極之間有至少一個介電材料層，所述至少一個介電材料層對應所述的正電極，其特征在于：

在所述腔室內表面上有至少一個凸起部件，被用作上述粉體或顆粒的攪拌裝置，從而使所述粉體或顆粒被均勻分散和均勻處理。

2.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述凸起部件的形狀或其橫截面形狀為銳角形、鈍角形、半圓形、弧線形、和/或流線型。

3.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，在所述筒體或球體上具有壓縮空氣入口，以便將壓縮空氣送入上述腔室中，用于將粘附在所述腔室內壁上或正電極表面上的粉體或顆粒剝離。

4.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述介電材料層為石英玻璃管、有機材料管和/或陶瓷管。

5.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述等離子體是介質阻擋放電(DBD)產生的等離子體氣體。

6.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述正電極與所述金屬負電極之間的距離是1-50毫米。

7.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述正電極材料為石墨或含石墨的物質。

8.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述金屬負電極材料為鐵、銅、鋁、各種合金或貴金屬。

9.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述等離子體工作氣體是空氣和/或惰性氣體。

10.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述等離子體電源的工作電壓為10⁴～10⁶伏；頻率為50赫茲-1兆赫茲。

11.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述等離子體電源包括一個脈沖變壓器。

12.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述腔室的縱向在水平方向上。

13.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述裝置在常溫和常壓下工作。

14.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，一次加入到所述腔室中的所述粉體或顆粒的體積是所述腔室空間體積的10-70％。

15.根據權利要求14所述的等離子體處理裝置，其中，一次加入到所述腔室中的所述粉體或顆粒的體積進一步是所述腔室空間體積的20-50％。

16.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述粉體或顆粒是單一物質或混合物。

17.根據權利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，所述粉體或顆粒是各種催化劑。