[發(fā)明專利]阻抗譜法確定有機(jī)半導(dǎo)體厚度依賴的遷移率方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610025150.7 | 申請(qǐng)日: | 2016-01-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105548267B | 公開(公告)日: | 2019-08-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 唐超;翟文娟;竇國(guó)生;徐慧;邱少亞;劉瑞蘭;戎舟;姜兵;龐宗強(qiáng);黃維 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京郵電大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N27/02 | 分類號(hào): | G01N27/02 |
| 代理公司: | 南京知識(shí)律師事務(wù)所 32207 | 代理人: | 汪旭東 |
| 地址: | 210046 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 阻抗 確定 有機(jī)半導(dǎo)體 厚度 依賴 遷移率 方法 | ||
1.一種阻抗譜法確定有機(jī)半導(dǎo)體厚度依賴的遷移率方法,其特征是該方法在小信號(hào)擾動(dòng)下,基于空間電荷限制電流理論SCLC,建立理論模型;
步驟1.制備測(cè)量遷移率的多個(gè)厚度在50nm-800nm中的單載流子器件,結(jié)構(gòu)為:陽(yáng)極/有機(jī)層/陰極;測(cè)量空穴遷移率時(shí)要求陽(yáng)極與有機(jī)層界面為歐姆接觸、有機(jī)層與陰極界面阻擋電子,測(cè)量電子遷移率時(shí)要求陽(yáng)極與有機(jī)層界面阻擋空穴、有機(jī)層與陰極為歐姆接觸;
步驟2.對(duì)器件施加小交流電壓信號(hào),振幅為25mv,頻率范圍為20~106Hz,并加載在1~10V正向直流偏壓,測(cè)量器件的阻抗虛部ImZ和實(shí)部ReZ;
步驟3.采用粒子群算法擬合阻抗的虛部ImZ和實(shí)部ReZ,得出載流子遷移時(shí)間τdc,進(jìn)而根據(jù)公式μdc=d2/(τdcV)計(jì)算出不同厚度下載流子遷移率μdc,做出厚度與遷移率的關(guān)系圖,其中d為待測(cè)有機(jī)層厚度,V為加載在有機(jī)層上的電壓,
步驟4.晶體衍射實(shí)驗(yàn)XRD排除薄膜表面形貌與結(jié)晶對(duì)遷移率的影響,
步驟5.根據(jù)Poole-Frenkel方程,擴(kuò)大電場(chǎng)范圍,得到更多種厚度下的遷移率,并在500(V/cm)1/2電場(chǎng),200nm厚度下有個(gè)交點(diǎn),在界面厚度為1-10nm,在500(V/cm)1/2電場(chǎng),分別做出幾種厚度下的界面厚度比例與遷移率的關(guān)系;
所述在小信號(hào)擾動(dòng)下,基于空間電荷限制電流理論SCLC,建立理論模型,是建立單載流子注入、無陷阱時(shí)的理論模型:
其中,Ω=2πfτdc=ωτdc,Ω為標(biāo)準(zhǔn)化頻率,為標(biāo)準(zhǔn)化遷移率;τdc、μdc分別為只有直流偏壓時(shí)的空穴遷移時(shí)間和空穴遷移率,Z為器件阻抗;A為器件的有效面積,d為有機(jī)層厚度,ε為待測(cè)有機(jī)半導(dǎo)體的介電常數(shù),i為虛數(shù)單位,色散參數(shù)M、α。
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