[發(fā)明專利]一種酸性氯化銅蝕刻廢液再生回收設(shè)備及其方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610024964.9 | 申請(qǐng)日： | 2016-01-13 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN105420732B | 公開（公告）日： | 2017-12-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉劍鋒;王志剛;李強(qiáng);葉進(jìn)福;梁浩鵬;劉劍波 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 惠州市臻鼎環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23F1/46 | 分類號(hào)： | C23F1/46;C25C1/12 |
| 代理公司： | 北京國昊天誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11315 | 代理人： | 許志勇 |
| 地址： | 516001 廣東省惠州市東江高新區(qū)東興片區(qū)東新*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 酸性 氯化銅 蝕刻 廢液 再生 回收 設(shè)備 及其 方法 | ||
1.一種酸性氯化銅蝕刻廢液再生回收設(shè)備，其特征在于，包括：
中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置；
離心電解裝置，連接所述中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置；以及
真空氯氣吸收裝置，連接所述離心電解裝置；
其中所述離心電解裝置包括外管體、筒形離子交換膜及陽極棒，所述筒形離子交換膜設(shè)置于所述外管體內(nèi)，并分隔所述外管體為陰極區(qū)及陽極區(qū)，所述陽極棒設(shè)置于所述陽極區(qū)，所述外管體具有進(jìn)液口、出液口及氯氣交換口，所述進(jìn)液口及出液口連通所述陰極區(qū)，所述氯氣交換口連通所述陽極區(qū)，所述中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置連接所述進(jìn)液口及出液口，所述真空氯氣吸收裝置連接所述氯氣交換口,相連接的所述離心電解裝置、中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置及真空氯氣吸收裝置的內(nèi)部空間為密閉空間；
其中所述離心電解裝置還包括底座及蓋體，所述底座設(shè)置于所述外管體的底部，并具有錐狀導(dǎo)流結(jié)構(gòu)，所述錐狀導(dǎo)流結(jié)構(gòu)的頂部抵接于所述筒形離子交換膜的底部；所述蓋體設(shè)置于所述外管體的頂端，并具有氣體收集結(jié)構(gòu)，所述氣體收集結(jié)構(gòu)的底部連接所述筒形離子交換膜的頂部，所述氣體收集結(jié)構(gòu)的頂部連接所述氯氣交換口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性氯化銅蝕刻廢液再生回收設(shè)備，其特征在于，所述中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置包括廢液儲(chǔ)存腔及再生液儲(chǔ)存腔，所述廢液儲(chǔ)存腔連接所述進(jìn)液口，所述再生液儲(chǔ)存腔連接所述出液口,所述廢液儲(chǔ)存腔與所述進(jìn)液口間更設(shè)有泵浦。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性氯化銅蝕刻廢液再生回收設(shè)備，其特征在于，所述真空氯氣吸收裝置還包括真空泵及反應(yīng)槽，所述真空泵連接所述氯氣交換口及所述反應(yīng)腔。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性氯化銅蝕刻廢液再生回收設(shè)備，其特征在于，所述外管體及陽極棒的材料為鈦金屬。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的酸性氯化銅蝕刻廢液再生回收設(shè)備，其特征在于，還包括流量分配件,所述流量分配件設(shè)置于所述外管體內(nèi),并位于所述陰極區(qū)的底部,且位于所述進(jìn)液口的上方。
6.一種使用如權(quán)利要求1所述的酸性氯化銅蝕刻廢液再生回收設(shè)備的方法，其特征在于，包括所述中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置提供加壓的氯化銅蝕刻廢液至所述外管體的錐狀導(dǎo)流結(jié)構(gòu),所述氯化銅蝕刻廢液沿著所述陽極棒作離心旋轉(zhuǎn)流動(dòng)并進(jìn)入陰極區(qū)及陽極區(qū)；施加電流至所述外管體及陽極棒，并對(duì)所述氯化銅蝕刻廢液產(chǎn)生電解反應(yīng)；所述氯化銅蝕刻廢液的銅離子位于所述陰極區(qū)并還原反應(yīng)為銅金屬，并沉積于所述外管體的內(nèi)側(cè)壁；所述氯化銅蝕刻廢液的氯離子通過所述筒形離子交換膜進(jìn)入所述陽極區(qū)，并經(jīng)氧化反應(yīng)為氯氣；所述真空氯氣吸收裝置抽取所述陽極區(qū)的氯氣；以及所述陰極區(qū)產(chǎn)生氯化銅蝕刻再生液,所述氯化銅蝕刻再生液流至所述中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述陽極棒的電流密度為2000A/平方米。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述氯化銅蝕刻再生液流至蝕刻生產(chǎn)線并產(chǎn)生氯化銅蝕刻廢液,所述氯化銅蝕刻廢液通過所述中轉(zhuǎn)循環(huán)裝置流至所述離心電解裝置。
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