[發(fā)明專利]一種帶有高重復(fù)性濕度檢測(cè)裝置的電源操作門板在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201610021172.6 | 申請(qǐng)日: | 2016-01-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105490507A | 公開(公告)日: | 2016-04-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡權(quán) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蔡權(quán) |
| 主分類號(hào): | H02M1/00 | 分類號(hào): | H02M1/00;C12M1/34;G01N27/22 |
| 代理公司: | 北京高航知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11530 | 代理人: | 趙永強(qiáng) |
| 地址: | 315200 浙江*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 帶有 重復(fù)性 濕度 檢測(cè) 裝置 電源 操作 門板 | ||
1.一種帶有高重復(fù)性濕度檢測(cè)裝置的電源操作門板,其特征在于,所述電源操作門板的 外部安裝有濕敏傳感器模塊,該濕敏傳感器模塊包括從下到上依次布設(shè)的重?fù)诫s硅片(1)、 緊貼重?fù)诫s硅片(1)的SiO2層(2)、碳納米管層(4)、位于SiO2層(2)間的下電極(3) 和位于碳納米管層(4)上的上電極(5),所述碳納米管層(4)生長(zhǎng)于SiO2層(2)上;所 述下電極(3)為金屬薄膜,所述金屬薄膜從內(nèi)到外依次為具有黏附性的Cr層、導(dǎo)電導(dǎo)熱的 Cu層和作為電極層的Au層,所述Cr層、Cu層和Au層的厚度依次為100nm、300nm和500 nm;所述碳納米管層(4)采用催化劑和/或光刻法實(shí)現(xiàn)其定域生長(zhǎng),生長(zhǎng)后的所述碳納米管 層(4)采用等離子體使其產(chǎn)生羥基修飾,碳納米管層(4)在等離子體羥基修飾之前經(jīng)過了 加入微量鎢粉的醋酸和雙氧水混合溶液的處理;所述金屬薄膜的表面緊貼有感測(cè)細(xì)菌生長(zhǎng)的 細(xì)菌酶膜層,該細(xì)菌酶膜層與金屬薄膜一起形成感測(cè)水分的細(xì)菌濕敏感測(cè)器;所述下電極(3) 和上電極(5)上連接有一個(gè)用于和客戶端通信連接的微控處理器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有高重復(fù)性濕度檢測(cè)裝置的電源操作門板,其特征在于, 所述濕敏傳感器的制作包括以下步驟:
S1:SiO2層制作:取所述重?fù)诫s硅片(1),將其放入管式爐中,按照10℃/min的速率 升溫到500℃,保溫12h,然后自然冷卻至室溫,即可在重?fù)诫s硅片(1)表面形成SiO2層 (2);
S2:下電極制作:將步驟(1)中制得的有SiO2層(2)的重?fù)诫s硅片(1)依次使用丙酮、 乙醇、去離子水清洗15min后烘干,在其表面旋涂光刻膠,使用下電極掩模版對(duì)其曝光,120℃ 烘干2min后顯影、烘干,在CHF3氣氛下干法刻蝕SiO2層(2),刻蝕30min,將刻蝕SiO2層(2)清洗后的重?fù)诫s硅片(1)放入磁控濺射儀中,在低于1.5×10-3pa真空下依次磁控濺 射Cr層、Cu層和Au層;將磁控濺射好Cr層、Cu層和Au層的下電極(1)表面固定上細(xì) 菌酶膜,然后清洗光刻膠;所述重?fù)诫s硅片(1)的尺寸大小為2cm×2cm;
S3:氣噴催化劑薄膜,步驟如下:
a.使用Fe/Ni納米粒子作為碳納米管(4)生長(zhǎng)的催化劑,首先,對(duì)帶有下電極(3)的重 摻雜硅片(1)旋涂光刻膠,采用催化劑的定域掩模版對(duì)其進(jìn)行曝光,然后經(jīng)過顯影,清洗備 用;
b.配制催化劑Fe/Ni的分散液:分別稱取200mg、50mg的Fe納米粒子和Ni納米粒子, 將其加入60ml的98%H2SO4和40ml的69%的HNO3混合溶液中,在80℃水浴中超聲3 h,然后用去離子水清洗后過濾,得到干燥的Fe/Ni混合納米粒子,然后稱取100mg的Fe/Ni 納米粒子,加入500ml的去離子水中,充分?jǐn)嚢韬蟮玫紽e/Ni混合納米粒子的分散液;
c.使用高純氮?dú)庾鳛闅鈬娸d體,調(diào)節(jié)噴筆與重?fù)诫s硅片(1)之間的水平和垂直距離,使 分散液的溶劑到達(dá)基片上時(shí)剛好揮發(fā)為準(zhǔn),氣噴5次,每次氣噴20s,使形成一層均勻的厚 度約為20nm的催化劑Fe/Ni的混合納米粒子薄膜;
S4:CVD法生長(zhǎng)碳納米管:
碳納米管(4)反應(yīng)氣源為CH4和H2的混合氣體,首先將帶有圖案化催化劑粒子的重?fù)? 雜硅片(1)進(jìn)行清洗,去除光刻膠,放入反應(yīng)腔中;然后抽真空,達(dá)到真空要求后通入氫氣, 施加微波使反映腔中產(chǎn)生等離子體;加熱襯底使其達(dá)到一定的溫度并保持40min,通入甲烷 氣體,此時(shí)碳納米管(4)開始生長(zhǎng);在生長(zhǎng)過程中腔中真空度保持不變;經(jīng)過10min左右, 關(guān)閉微波源和射頻加熱器,停止通入甲烷氣體,關(guān)閉氫氣,通入氬氣,取出重?fù)诫s硅片(1) 的襯底,得到圖案化的碳納米管(4);
S5:等離子體處理碳納米管:
a.首先將40ml的60%醋酸和20ml的10%的雙氧水放入燒杯,充分混合,在其中加入 微量鎢粉,然后將生長(zhǎng)有圖案化碳納米管(4)的重?fù)诫s硅片(1)的襯底放入,靜置2h;
b.把生長(zhǎng)有碳納米管(4)的重?fù)诫s硅片(1)的襯底送進(jìn)等離子體發(fā)生器中,抽真空至 1.0×10-1pa以下,然后以惰性氣體N2為載氣,將反應(yīng)物氨水隨N2氣流帶入儀器中,使氣流 流速穩(wěn)定在20mL/min,等待1h,打開功率源,調(diào)節(jié)至50W,儀器中產(chǎn)生輝光,在等離子體 作用下,氣體分子價(jià)鍵被破壞,大量羥基產(chǎn)生,碳納米管(4)在醋酸和雙氧水的環(huán)境中經(jīng)過 鎢粉的作用,碳納米管被產(chǎn)生的羥基修飾,等離子體處理30min后,關(guān)閉功率源,取出襯底;
S6:制備上電極:將步驟S1~S5中得到的重?fù)诫s硅片(1)用臭氧清洗20min,覆蓋上電 極(5)的陶瓷掩模版,然后將重?fù)诫s硅片(1)放入磁控濺射儀中,在低于1.5×10-3pa真空 下濺射具有Au層的上電極(5),其中,Au層的厚度約200nm;
S7:焊接封裝:分別用引線使上電極(5)和下電極(3)連接,對(duì)所述濕敏傳感器進(jìn)行 封裝,并把數(shù)字電橋與碳納米管電容式濕敏傳感器焊接,數(shù)字電橋用來(lái)讀取在濕度變化環(huán)境 下濕敏傳感器的電容變化,以此來(lái)標(biāo)定水蒸氣濃度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種帶有高重復(fù)性濕度檢測(cè)裝置的電源操作門板,其特征在于, 所述步驟S2中旋涂光刻膠的參數(shù)設(shè)置如下:低速900rpm,15s;高速3500rpm,50s。
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H02M 用于交流和交流之間、交流和直流之間、或直流和直流之間的轉(zhuǎn)換以及用于與電源或類似的供電系統(tǒng)一起使用的設(shè)備;直流或交流輸入功率至浪涌輸出功率的轉(zhuǎn)換;以及它們的控制或調(diào)節(jié)
H02M1-00 變換裝置的零部件
H02M1-02 .專用于在靜態(tài)變換器內(nèi)的放電管產(chǎn)生柵極控制電壓或引燃極控制電壓的電路
H02M1-06 .非導(dǎo)電氣體放電管或等效的半導(dǎo)體器件的專用電路,例如閘流管、晶閘管的專用電路
H02M1-08 .為靜態(tài)變換器中的半導(dǎo)體器件產(chǎn)生控制電壓的專用電路
H02M1-10 .具有能任意地用不同種類的電流向負(fù)載供電的變換裝置的設(shè)備,例如用交流或直流
H02M1-12 .減少交流輸入或輸出諧波成分的裝置
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