[發(fā)明專利]彩膜基板的制作方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201610019265.5
• 申請日: 2016-01-12
• 公開（公告）號: CN105629559A
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 趙國濤
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335
• 代理公司: 深圳市德力知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265
• 代理人: 林才桂

1.一種彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1、提供基板(10)，設(shè)定所述基板(10)上相對兩側(cè)的兩表面分別 為第一表面(11)和第二表面(12)，在所述基板(10)的第一表面(11) 上形成金屬材料的保護(hù)膜(20)；

步驟2、將基板(10)放置于承載臺(100)上，此時，第一表面(11) 面向承載臺(100)，第一表面(11)上的保護(hù)膜(20)與承載臺(100)相 接觸，在基板(10)的第二表面(12)上形成黑色矩陣(30)、色阻層 (40)、及外敷層(50)；

步驟3、提供酸性溶液，將第一表面(11)上的保護(hù)膜(20)清除掉；

步驟4、提供薄化液，利用薄化液從基板(10)的第一表面(11)對基板 (10)進(jìn)行薄化，得到彩膜基板。

2.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述保護(hù)膜 (20)包括依次形成于所述第一表面(11)上的第一保護(hù)層(21)、及第二保 護(hù)層(22)。

3.如權(quán)利要求2所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述第一保 護(hù)層(21)的材料為鋁，所述第二保護(hù)層(22)的材料為鐵。

4.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述保護(hù)膜 (20)通過物理氣相沉積工藝形成。

5.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述酸性溶 液為鹽酸溶液。

6.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述基板 (10)為玻璃基板。

7.如權(quán)利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述薄化液 為氫氟酸溶液。

8.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步驟2 中，還包括在基板(10)的第二表面(12)上形成公共電極層、及聚酰亞胺 層。

9.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述色阻層 (40)包括紅色色阻層、綠色色阻層、及藍(lán)色色阻層。

10.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述彩膜基 板用于尺寸大于8.6寸的顯示面板。