[發明專利]一種替代高位水池的立式砂倉環形溢流槽的設計方法

有效

• 申請號: 201610019245.8
• 申請日: 2016-01-13
• 公開（公告）號: CN105672408B
• 公開（公告）日: 2017-07-28
• 發明（設計）人: 張欽禮;王新民;南世卿;張德明;胡亞軍;趙建文;宋愛東;韓瑞亮
• 申請（專利權）人: 中南大學;河北鋼鐵集團礦業有限公司;湖南中大設計院有限公司
• 主分類號: E03B11/00
• 分類號: E03B11/00;E03B11/10;E21F15/00
• 代理公司: 長沙市融智專利事務所43114
• 代理人: 鄧建輝

1.一種替代高位水池的立式砂倉環形溢流槽的設計方法，其特征是：利用立式砂倉或深錐濃密機頂部自然高差，將其環形溢流槽改為兩格，內格作為高位儲水槽，外格作為集排水槽；尾礦進入立式砂倉或深錐濃密機濃縮，溢流水通過立式砂倉或深錐濃密機頂部倉壁上的溢流口進入高位儲水槽儲存，充填生產用水時，通過布置在高位儲水槽底部的管道向各用水地點自流供水；超出高位儲水槽容量的多余溢流水通過高位儲水槽頂部的溢流口進入集排水槽，通過沿立式砂倉或深錐濃密機外壁懸掛的管道進入充填站排水系統。

2.根據權利要求1所述的替代高位水池的立式砂倉環形溢流槽的設計方法，其特征是：高位儲水槽容積按充填系統日生產需水量的1～3倍設計，集排水槽容積按照其管道排水速度大于立式砂倉或深錐濃密機溢流水產生速度并適當考慮富余的原則確定。

3.根據權利要求1或2所述的替代高位水池的立式砂倉環形溢流槽的設計方法，其特征是：高位儲水槽外環略高于其內環，集排水槽外環略高于其內環即內格高位儲水槽外環，以防止水濺出外溢。

4.根據權利要求1或2所述的替代高位水池的立式砂倉環形溢流槽的設計方法，其特征是：具體實施步驟如下：

(1)、根據一次充填所需引流水即充填開始前的洗管水、濃度調節用水、充填后洗管水量，合并計算充填系統日生產用水量；

(2)、按充填系統日生產用水量的1～3倍確定高位儲水槽的容積；

(3)、按照立式砂倉或深錐濃密機的外徑，以及高位儲水槽外環略高于內環即立式砂倉或深錐濃密機頂部平面的原則，確定高位儲水槽的深度和外徑；

(4)、根據充填系統小時用水量，確定高位儲水槽供水管的管徑和根數；

(5)、根據立式砂倉或深錐濃密機溢流水流量和選定的排水管道及排水速率，按排水速率大于溢流水流量的原則，確定集排水槽的容積；

(6)、根據集排水槽外環略高于其內環即內格高位儲水槽外環、底面與高位儲水槽底面平齊的原則，確定集排水槽外徑；

(7)、按溢流水排出速率，確定溢流口的形式和數量；

(8)、根據以上參數，分兩格設計內格的高位儲水槽和外格的集排水槽結構與供、排水線路及固定方式。