[發明專利]用于產生噴射射流的方法,和雙組分噴嘴有效
| 申請號: | 201610017209.8 | 申請日: | 2016-01-12 |
| 公開(公告)號: | CN105772264B | 公開(公告)日: | 2020-06-26 |
| 發明(設計)人: | T.澤布 | 申請(專利權)人: | 萊希勒有限公司 |
| 主分類號: | B05B7/04 | 分類號: | B05B7/04;B05B12/18 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 佘鵬;董均華 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 產生 噴射 射流 方法 組分 噴嘴 | ||
本發明涉及用于產生噴射射流的方法,和雙組分噴嘴。具體而言,本發明涉及一種用于利用具有噴嘴殼體的雙組分噴嘴產生來自液體/氣體混合物的噴射射流的方法,所述方法具有混合供應的液體和供應的氣體以及產生包括氣體和液滴的噴射射流的步驟,其中,提供了氣體射流的產生和所述氣體射流與所述噴射射流的混合。
技術領域
本發明涉及一種用于利用具有噴嘴殼體的雙組分噴嘴產生來自液體/氣體混合物的噴射射流的方法,所述方法具有混合供應的液體和供應的氣體以及產生包括氣體和液滴(gas and liquid drops)的噴射射流的步驟。本發明還涉及一種用于利用噴嘴殼體來噴射液體/氣體混合物的雙組分噴嘴,其中,所述噴嘴殼體具有至少一個液體入口、至少一個氣體入口和至少一個出口開口,并且其中,在所述噴嘴的操作期間,包括氣體和液滴的噴射射流存在于所述至少一個出口開口的下游。
背景技術
具有內混合室的雙組分噴嘴具有噴射射流,所述噴射射流具有核心射流和圍繞所述核心射流的外部射流。所述核心射流和所述外部射流能夠完全合并在一起;一般而言,所述核心射流在雙組分噴嘴的情況下是明顯的。如果這樣的噴射射流進入過程的周圍環境,則核心射流中的液滴僅具有延遲地進入到與所述過程的周圍環境(processsurroundings)的熱和物質交換中。結果,蒸發距離被延伸。首先,能夠觀察到的是,在具有內混合室的常規的雙組分噴嘴的情況下,大的液滴在從噴嘴殼體離開之后形成在噴射射流的核心射流中。
發明內容
利用本發明,意在關于避免噴射射流的核心射流中的大的液滴來改進用于產生噴射射流的方法和雙組分噴嘴。
為此,根據本發明,提供了一種用于利用具有噴嘴殼體的雙組分噴嘴產生來自液體/氣體混合物的噴射射流的方法,所述方法具有混合供應的液體與供應的氣體以及產生包括氣體和液滴的噴射射流的步驟,所述方法還包括產生至少一個氣體射流,并且使所述氣體射流與所述噴射射流混合;并且還提供了一種用于利用噴嘴殼體來噴射液體/氣體混合物的雙組分噴嘴,其中,所述噴嘴殼體具有至少一個液體入口、至少一個氣體入口和至少一個出口開口,并且其中,在所述噴嘴的操作期間,包括氣體和液滴的噴射射流存在于所述至少一個出口開口的下游,設置至少一個另外的氣體出口開口用于產生氣體射流,其中,所述另外的氣體出口開口以使得所述氣體射流與所述噴射射流混合的方式來設計和布置。
在根據本發明的用于利用具有噴嘴殼體的雙組分噴嘴產生來自液體/氣體混合物的噴射射流的方法的情況下,所述方法具有混合供應的液體和供應的氣體以及產生包括氣體和液滴的噴射射流的步驟,提供了至少一個氣體射流的產生和氣體射流與噴射射流的混合。
因此,通過氣體射流與所述噴射射流混合,存在于所述噴射射流中的液滴能夠通過所述氣體射流被附加地霧化。結果,能夠防止大的液滴在所述噴射射流中形成。
在本發明的發展中,所述噴射射流具有核心射流和圍繞所述核心射流的外部射流,其中,所述氣體射流首先與所述噴射射流的核心射流混合。
由于大的液滴可特定地在雙組分噴嘴的噴射射流的核心射流中出現,所以氣體射流首先與噴射射流的核心射流混合是特別有利的。這是因為所述氣體射流隨后可靠地提供對所述核心射流中大的液滴的進一步的霧化或分解(division)。盡管所述氣體射流在進入到外部射流的區域中之前已經失去動能,但這并不要緊,因為例如通過設置圍繞所述噴嘴殼體的環形噴嘴,并且因此,通過使用環形的空氣,能夠防止位于所述外部射流中的大的液滴。
在本發明的發展中,提供了液體和氣體在所述噴嘴殼體的混合室內的混合以及氣體射流與噴射射流在所述混合室的下游的混合。
在本發明的發展中,所述氣體射流與所述噴射射流的混合發生在所述噴嘴殼體內。
可替代地,所述氣體射流與所述噴射射流的混合能夠發生在所述噴嘴殼體外。
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