[發明專利]用于超高真空系統的可控低溫汞蒸氣源在審
| 申請號： | 201610016143.0 | 申請日： | 2016-01-11 |
| 公開（公告）號： | CN105698151A | 公開（公告）日： | 2016-06-22 |
| 發明（設計）人： | 劉亢亢;徐震;劉洪力;孫劍芳;王育竹 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | F22B3/00 | 分類號： | F22B3/00 |
| 代理公司： | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人： | 張澤純;張寧展 |
| 地址： | 201800 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 超高 真空 系統 可控 低溫 蒸氣 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于超高真空系統的可控低溫汞蒸氣源，其特征為：包括內盛裝有單 質汞、且外表面粘貼溫度傳感器(7)的汞杯(1)、真空多級TEC(2)、中空熱沉(3) 具有進水口及出水口的通水法蘭(4)、進水管(5)和出水管(6)；
所述的汞杯(1)的底部和TEC(2)的頂部通過真空膠粘接，TEC(2)的底部 和熱沉(3)的頂部用真空膠粘接，熱沉(3)底部通過通水法蘭(4)固定在所述 的超高真空系統的腔體(9)上，所述的進水管(5)的一端通過通水法蘭(4)的 進水口伸入中空熱沉(3)中，所述的出水管(6)的一端通過通水法蘭(4)的出 水口伸入中空熱沉(3)中，所述的溫度傳感器(7)與所述的超高真空系統的連接 線法蘭相連(8)。
2.根據權利要求1所述的用于超高真空系統的可控低溫汞蒸氣源，其特征為： 所述的熱沉(3)為空心圓柱形，頂端封閉，底部開口且邊緣向外突出。
3.根據權利要求1所述的用于超高真空系統的可控低溫汞蒸氣源，其特征為： 所述的通水法蘭(4)的出水管(6)靠近熱沉(3)內部頂端，進水管(5)比出水 管(6)的高度低。
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