[發明專利]一種印染廢水深度處理裝置

在審

• 申請號: 201610015783.X
• 申請日: 2016-01-11
• 公開（公告）號: CN105645681A
• 公開（公告）日: 2016-06-08
• 發明（設計）人: 王莉;萬玉山;鄒濤;李大偉
• 申請（專利權）人: 常州大學
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及廢水處理技術領域，具體涉及一種印染廢水深度處理裝置。

背景技術

紡織工業關乎國計民生，在我國屬于傳統支柱產業，其工業生產總值約占 全國總產值的10％，產品市場占有率也位居世界第二，但其在帶來巨大經濟效益 的同時也給水環境安全造成了不容小覷的壓力，尤其是印染，作為紡織產業鏈 的重要環節，排放了整個產業鏈八成的污染物，據統計，每年全國產生的印染 廢水有24.5億噸之多，約占我國工業廢水總排放量的12％，在41個被統計的行業 中，居第三位。印染廢水成分復雜，主要污染物來源于加工過程中所使用的大 量染料、化學藥劑，存在不少有毒、有害物質，水質水量多變，生物降解性也 較差，是一類被公認的難處理工業廢水。

目前，印染廢水的主要處理工藝為傳統的物化和生物法聯合工藝，其中廣 泛應用活性污泥法，但是經傳統方法處理后的印染廢水的COD、氨氮、色度等一 些指標仍然偏高，很難繼續穩定達到現行的排放標準。隨著水污染防治形勢日 益嚴峻，為了滿足環境管理需求，政府在印染行業產能集中地區針對印染廢水 排放實施了更為嚴格的標準。另外，印染企業是當之無愧的耗水大戶，近年來 由于水資源匱乏，水價一直呈上升趨勢，企業用水成本不斷增加。因此為了實 現企業的可持續發展，有必要實施清潔生產，控制廢水排放，加強廢水深度處 理，開展中水回用工作。

發明內容

本發明要解決的技術問題是：為了解決上述印染廢水處理中的難題，本發 明提供一種印染廢水深度處理裝置。

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：一種印染廢水深度處理裝置， 包括調節池、氣浮池、高級氧化沉淀池、改良填料式A²O池、反流曝氣濾池和穩 定塘；所述調節池、氣浮池、高級氧化沉淀池、改良填料式A²O池、反流曝氣濾 池和穩定塘依次連通。

所述的調節池包括調節池進水管和調節池出水管，用于調節印染廢水的水 質和水量。

所述的氣浮池包括氣浮池進水管和用于排出處理后水的氣浮池出水管，所 述的氣浮池從下至上依次為泥砂區、混合區和分離區；所述的分離區包括集水 區和位于集水區內的集渣區；所述氣浮池的泥砂區和混合區之間設置有氣浮池 曝氣盤，所述的氣浮池曝氣盤的上方設有氣浮池布水支管，所述的氣浮池布水 支管連接氣浮池進水管，所述的氣浮池曝氣盤通過氣浮池曝氣管連接有氣浮池 外的鼓風機；所述的分離區內設有氣浮池三相分離器，所述的氣浮池三相分離 器包括導流板和位于導流板下方與導流板配合使用的三角導流環，所述的三角 導流環安裝在氣浮池的內壁上，所述的導流板的上部與分離區的形狀相同，所 述的導流板的下部呈喇叭狀，所述的導流板的下部的內徑大于三角導流環的內 徑；所述的分離區的上部設有氣浮池溢水堰，所述的氣浮池溢水堰與氣浮池出 水管相連；所述的集渣區布設有刮渣板和浮渣槽；廢水從下往上溢時，水與浮 渣一起通過三角導流環進入導流板的下部，浮渣繼續往上進入集渣區，水通過 導流板與三角導流環之間的間隙進入集水區；為了廢水處理的效果更好，所述 的氣浮池布水支管設置成同心圓形狀或十字形狀，氣浮池布水支管上具有水平 輻射出水口；進一步，所述的氣浮池曝氣盤是均勻設置有微孔的微孔式曝氣盤； 由于水、沉淀物的密度不同，在氣浮池三相分離器作用下實現分離；為了排出 處理后的沉淀物，所述的氣浮池底部設有沉淀物排放閥。

所述的氣浮池出水管與高級氧化沉淀池進水管連通。

所述的高級氧化沉淀池包括曝氣混合區和沉淀區，曝氣混合區底部設置有 臭氧曝氣盤，所述的臭氧曝氣盤的上方設有高級氧化沉淀池布水支管，所述的 高級氧化沉淀池布水支管連接高級氧化沉淀池進水管，所述的臭氧曝氣盤通過 曝氣管連接有高級氧化沉淀池外的臭氧鼓風機，臭氧鼓風機通過管道連通臭氧 發生器；所述沉淀區內設有擋板，該擋板與沉淀池的內壁形成作為廢水進入沉 淀區的廢水流道，沉淀區的出口處設有高級氧化沉淀池三相分離器，沉淀區的 出口上部設有高級氧化沉淀池溢水堰，沉淀區底部設計成錐形結構，在沉淀區 底部設置有排泥閥。