[發(fā)明專利]頭發(fā)造型裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201610015288.9
• 申請日: 2011-08-12
• 公開（公告）號: CN105639974B
• 公開（公告）日: 2019-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: T·福特;R·希姆斯;J·A·辛克萊爾;J·麥克費爾森
• 申請（專利權(quán)）人: 潔美來有限公司
• 主分類號: A45D1/04
• 分類號: A45D1/04;A45D1/28;A45D2/00
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 麥善勇;張?zhí)焓?/td>

1.一種頭發(fā)造型裝置，該頭發(fā)造型裝置包括至少一個加熱器，所述加熱器具有多個加熱分區(qū)，其中所述多個加熱分區(qū)中的每一個能夠獨立工作，其中所述加熱分區(qū)沿所述加熱器的長度設(shè)置，其中至少一個加熱器包括多個溫度傳感器，每個所述溫度傳感器設(shè)置成感測所述加熱器的各個加熱分區(qū)的溫度并且其中依據(jù)所感測的所述加熱分區(qū)的溫度單獨控制每個所述加熱分區(qū)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頭發(fā)造型裝置，其中所述多個加熱分區(qū)設(shè)置成提供至少一個沿加熱器的長度具有均勻的加熱效果的加熱器。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的頭發(fā)造型裝置，其中所述多個加熱分區(qū)設(shè)置成控制沿加熱器的長度的熱梯度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的頭發(fā)造型裝置，其中所述多個加熱分區(qū)設(shè)置成根據(jù)所感測的頭發(fā)類型和頭發(fā)沿所述至少一個加熱器的均勻或不均勻分布中的至少一項來工作。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的頭發(fā)造型裝置，其中所述所感測的頭發(fā)類型包括：

厚度；

發(fā)質(zhì)；

狀態(tài)；和

熱質(zhì)量中的一個或多個。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的頭發(fā)造型裝置，其中所述至少一個加熱器包括可加熱板并且其中每個所述加熱分區(qū)包括一個或多個加熱元件。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的頭發(fā)造型裝置，其中每個所述溫度傳感器設(shè)置成與所述可加熱板熱接觸以感測所述可加熱板的溫度。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的頭發(fā)造型裝置，其中每個所述加熱分區(qū)包括可加熱板。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的頭發(fā)造型裝置，其中所述多個加熱分區(qū)設(shè)置成在第一時期提供第一加熱效果并且在第二時期提供第二加熱效果。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的頭發(fā)造型裝置，其中每個所述加熱分區(qū)包括一個或多個加熱元件并且其中所述加熱元件設(shè)置成重疊或堆疊結(jié)構(gòu)。

11.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的頭發(fā)造型裝置，其中每個所述加熱分區(qū)包括一個或多個加熱元件并且其中所述加熱元件包括堆疊的厚膜加熱器陣列，該堆疊的厚膜加熱器陣列通過依次地絲網(wǎng)印刷電阻導(dǎo)電層和搪瓷層制成。

12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的頭發(fā)造型裝置，其中所述一個或多個加熱元件包括：

印刷在陶瓷上的厚膜；

印刷在陽極氧化鋁上的厚膜；

在陶瓷上脫水的薄膜；

在陽極氧化鋁上脫水的薄膜；

福萊西加熱器；和

卡普頓加熱器中的一個或多個。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的頭發(fā)造型裝置，其中所述厚膜包括電阻導(dǎo)電材料。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的頭發(fā)造型裝置，其中所述電阻導(dǎo)電材料是金屬的、離子的或碳基的。

15.根據(jù)權(quán)利要求12、13或14所述的頭發(fā)造型裝置，其中陶瓷基板的厚度選擇為使得陶瓷基板足夠薄以減小加熱元件的熱阻與質(zhì)量和/或降低陶瓷基板的開裂敏感性。

16.根據(jù)權(quán)利要求12、13或14所述的頭發(fā)造型裝置，其中所述厚膜包括電阻導(dǎo)電薄膜層，所述電阻導(dǎo)電薄膜層印刷在鋁板的陽極面或氧化面上。

17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的頭發(fā)造型裝置，其中所述鋁板是加熱分區(qū)的可加熱板。