[發(fā)明專利]由半導(dǎo)體與含導(dǎo)電區(qū)域的絕緣體構(gòu)成的半導(dǎo)體器件耐壓區(qū)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201610013035.8 | 申請日: | 2016-01-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106960868A | 公開(公告)日: | 2017-07-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳星弼 | 申請(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L29/06 | 分類號(hào): | H01L29/06 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所11038 | 代理人: | 孫寶海 |
| 地址: | 610054 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 導(dǎo)電 區(qū)域 絕緣體 構(gòu)成 半導(dǎo)體器件 耐壓 | ||
1.一種半導(dǎo)體器件,所述半導(dǎo)體器件包括一個(gè)第一主表面和一個(gè)與第一主表面相對的第二主表面,在所述第一主表面和所述第二主表面內(nèi)至少含有一個(gè)元胞,所述元胞在緊貼所述第一主表面內(nèi)有一個(gè)器件的第一特征區(qū),在緊貼所述第二主表面內(nèi)有一個(gè)器件的第二特征區(qū),在器件的所述第一特征區(qū)和所述第二特征區(qū)之間存在一個(gè)耐壓區(qū),其特征在于:所述耐壓區(qū)包括至少一個(gè)半導(dǎo)體區(qū)和一個(gè)(I+C)區(qū),所述半導(dǎo)體區(qū)和所述(I+C)區(qū)之間有相互直接連接的面;所述(I+C)區(qū)至少含有一個(gè)絕緣體區(qū)并至少含有一個(gè)導(dǎo)電區(qū)域;
所述半導(dǎo)體器件至少有兩個(gè)電極;一個(gè)電極緊貼于所述第一主表面的部分區(qū)域或全部區(qū)域;另一個(gè)電極緊貼于所述第二主表面的部分區(qū)域或全部區(qū)域;兩個(gè)電極在所述第一主表面和所述第二主表面所夾的空間的外部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,所述的半導(dǎo)體器件由多個(gè)元胞的密堆積形成的;在器件的所述第一特征區(qū)和所述第二特征區(qū)之間的一個(gè)剖面上,耐壓區(qū)的構(gòu)造是叉指條形結(jié)構(gòu),或六角形結(jié)構(gòu),或長方形結(jié)構(gòu),或方塊形結(jié)構(gòu),或鑲嵌方塊形結(jié)構(gòu);
在離開所述第一主表面的不同距離的剖面上,(I+C)區(qū)的面積與半導(dǎo)體區(qū)的面積的比例是不變的或是變化的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述半導(dǎo)體器件,所述耐壓區(qū)中的半導(dǎo)體區(qū)包括第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)與/或第二種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,所述器件的第二特征區(qū)為一個(gè)第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū);
所述器件的第一特征區(qū)包含一個(gè)與耐壓區(qū)中的半導(dǎo)體區(qū)直接連接的第二種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū),或者還包含一個(gè)與耐壓區(qū)中(I+C)區(qū)相連接的第二種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)或一個(gè)導(dǎo)體區(qū)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,所述器件的第二特征區(qū)有一個(gè)第二種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)緊貼在所述第二主表面,還有一個(gè) 與第二種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)相連接的第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū),所述第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)又與耐壓區(qū)相連接;
所述器件的第一特征區(qū)包含一個(gè)與耐壓區(qū)中第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)直接連接的第二種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū),或者還包含一個(gè)與耐壓區(qū)中(I+C)區(qū)相連接的第二種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)或一個(gè)導(dǎo)體區(qū)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,所述半導(dǎo)體器件是金-半接觸的肖特基二極管,所述器件的第二特征區(qū)是一個(gè)第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū);
所述器件的第一特征區(qū)為金屬,所述金屬與耐壓區(qū)中的第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體材料直接連接;
所述器件的第一特征區(qū)及所述器件的第二特征區(qū)各有導(dǎo)體連出分別作為肖特基二極管的兩個(gè)電極;
所述器件的第一特征區(qū)還包含一個(gè)與耐壓區(qū)中的(I+C)區(qū)相連接的第二種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)或一個(gè)導(dǎo)體區(qū)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,所述半導(dǎo)體器件是一個(gè)JBS整流器或一個(gè)MPS整流器,所述器件的第二特征區(qū)是一個(gè)第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū);
所述器件的第一特征區(qū)含有一個(gè)金屬區(qū),所述金屬區(qū)與耐壓區(qū)中的第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)有直接連接;
所述器件的第一特征區(qū)還含有第二種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū),它與耐壓區(qū)中的第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)有直接連接,還與所述金屬區(qū)直接連接;
所述器件的第一特征區(qū)及所述器件的第二特征區(qū)各有導(dǎo)體連出分別作為JBS整流器或一個(gè)MPS整流器的兩個(gè)電極。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的半導(dǎo)體器件,所述半導(dǎo)體器件是一個(gè)雙極型晶體管,所述器件的第二特征區(qū)是一個(gè)第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū);
所述耐壓區(qū)中至少有第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū),構(gòu)成雙極型晶體管的集電區(qū);
所述器件的第一特征區(qū)所包含的第二種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū),構(gòu)成雙極型晶體管的基區(qū);
所述器件的第一特征區(qū)內(nèi)還有一個(gè)除在半導(dǎo)體表面外均被所述基區(qū)所包圍的第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū),構(gòu)成雙極型晶體管的發(fā)射區(qū);
在所述器件的第二特征區(qū)的第一種導(dǎo)電類型的半導(dǎo)體區(qū)有導(dǎo)體連出作為集電極,在所述基區(qū)有導(dǎo)體連出作為基極,在所述發(fā)射區(qū)有導(dǎo)體連出作為發(fā)射極。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的
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